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J-GLOBAL ID:201702242575135302   整理番号:17A0408529

スパッタリング法を用いたポリエーテルエーテルケトン(PEEK)基板上のヒドロキシアパタイト薄膜の作製【Powered by NICT】

Fabrication of hydroxyapatite thin films on polyetheretherketone substrates using a sputtering technique
著者 (3件):
資料名:
巻: 72  ページ: 576-582  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0574A  ISSN: 0928-4931  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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ヒドロキシアパタイト(HA)薄膜を,スパッタリング法を用いたポリエーテルエーテルケトン(PEEK)基板上に被覆した。薄いチタン(Ti)中間層は,HAとPEEK表面の間に形成されたPEEK基板へのHA皮膜の密着性を改善することであった。被覆膜はHA膜の溶解を低減するために水熱処理を用いて再結晶した。膜を,X線回折(XRD),走査電子顕微鏡(SEM),およびUV-可視分光光度計によって特性化した。基板接着強さを測定するために実施した引抜試験,超純水で実施した浸漬試験。PEEK基板上のTi中間層を持つスパッタ膜のXRDパターンでは,小さなHAピークと大きなTiピークが観察された。水熱処理後,HAピークの強度は増加した。5と10nmのTi中間層を持つHA膜の透過率は水熱処理後可視光波長領域(400 700nm)では,それぞれ,>79%と68%であった。水熱処理したHA膜の接着強度はTi中間層の厚さの減少と共に増加し,強さが5nm厚のTi中間層を有する2.7MPaに達した。浸漬試験では,水熱処理無しの5nm厚Ti中間層を持つHA膜は42.0±2.4ppbの放出されたTi濃度を示した。水熱処理後,放出されたTi濃度は17.3±1.1ppbに低下した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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医用素材 

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