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J-GLOBAL ID：201702242669566062   整理番号：17A0365396

ガリウムイオン照射はスパッタ蒸着した非晶質炭素薄膜の締固めと硬化を誘発した【Powered by NICT】

Gallium ion irradiation induced compaction and hardening of sputter deposited amorphous carbon thin films

著者 (6件)： Lehnert Fritz (Leibniz Institute for Surface Modification, Permoserstrasse 15, 04318 Leipzig, Germany) ,  Haeupl Tilmann (Wilhelm-Ostwald-Institute, Faculty of Chemistry and Mineralogy, University of Leipzig, Linnestrasse 3, 04103 Leipzig, Germany) ,  Abel Bernd (Leibniz Institute for Surface Modification, Permoserstrasse 15, 04318 Leipzig, Germany) ,  Abel Bernd (Wilhelm-Ostwald-Institute, Faculty of Chemistry and Mineralogy, University of Leipzig, Linnestrasse 3, 04103 Leipzig, Germany) ,  Mayr S.G. (Leibniz Institute for Surface Modification, Permoserstrasse 15, 04318 Leipzig, Germany) ,  Mayr S.G. (Division of Surface Physics, Faculty of Physics and Earth Sciences, University of Leipzig, Linnestrasse 5, 04103 Leipzig, Germany)
資料名： Materials & Design  (Materials & Design)
巻： 112  ページ： 512-518  発行年： 2016年 
JST資料番号： A0495B  ISSN： 0264-1275  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エネルギー30keVガリウムイオン照射によって改質されたスパッタ蒸着した非晶質炭素薄膜を調べた。試料を原子間力顕微鏡と走査電子顕微鏡観察を組み合わせたRaman分光法測定によって特性化した。イオン照射表面の凹みの開発が観測され,これは10~16cm~ 2のフルエンスで飽和した。このフルエンス範囲では,材料挙動における遷移は異なる分析技術を用いて観察された。さらに,表面平滑化と材料硬化を測定した。ストレス緩和ならびに.~リッチ炭素ハイブリダイゼーションに対する.~2に富んだからの転移が可能な起源として検討した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 原子間力顕微鏡 ,  分子ハイブリダイゼーション ,  フルエンス ,  *締固め ,  Raman分光法 ,  平滑化 ,  *イオン照射 ,  キャラクタリゼーション ,  *非晶質
準シソーラス用語： *アモルファスカーボン ,  へこみ ,  走査電子顕微鏡法 ,  *炭素薄膜 ,  *ガリウムイオン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： イオン照射 ,  非晶質炭素 ,  締固め ,  硬化

分類 (2件)： クラッド材  (WE04020G) ,  機械的性質  (WB02030U)

タイトルに関連する用語 (8件)： ガリウム ,  イオン照射 ,  スパッタ蒸着 ,  非晶質 ,  炭素薄膜 ,  締固め ,  硬化 ,  誘発