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J-GLOBAL ID：201702245082947599   整理番号：17A0662456

カルボキシル 酸化グラフェンの光リミッティング【Powered by NICT】

Optical Limiting of Carboxyl-Graphene Oxide

著者 (5件)： Zhang Fang (State Key Laboratory of Crystal Materials, Shandong University, Jinan, China) ,  Wang Zhengping (State Key Laboratory of Crystal Materials, Shandong University, Jinan, China) ,  Wang Duanliang (State Key Laboratory of Crystal Materials, Shandong University, Jinan, China) ,  Wang Shenglai (State Key Laboratory of Crystal Materials, Shandong University, Jinan, China) ,  Xu Xinguang (State Key Laboratory of Crystal Materials, Shandong University, Jinan, China)
資料名： IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics  (IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics)
巻： 23  号： 1  ページ： ROMBUNNO.9000106.1-6  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0734A  ISSN： 1077-260X  CODEN： IJSQEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Z走査法を用いて,カルボキシル官能化グラフェン酸化物(GO)の非線形光学吸収特性を初めて研究した。強い光リミッティング(OL)効果はカルボキシルGO,二光子吸収(2PA)に帰することができることを明らかにした。532nm励起条件で,OL挙動のしきい値は1064nm励起でのそれの僅か8%であり,可飽和強度I_s2PA係数β_2 1.31GW/cm~2と0.17cm/GWであった。カルボキシルGOはOL応用のための優れたナノ材料,特に短い波長範囲であることを示している。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 官能化 ,  ナノ材料 ,  非線形光学 ,  波長 ,  *二光子吸収 ,  励起
準シソーラス用語： Z走査法 ,  *光リミッティング ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 非線形光学  (BD05000T) ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (2件)： 酸化グラフェン ,  光リミッティング