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J-GLOBAL ID：201702245131983474   整理番号：17A0301555

モザイクをドープした酸化ケイ素薄膜の微細構造調整とその光吸収特性【JST・京大機械翻訳】

Microstructure Adjustment and Optical Absorption Properties of Silicon Oxide Films Containing Silicon Nanocrystals

著者 (5件)： Mei Yan (Leshan Vocational and Technical College) ,  Jia Xi (Leshan Vocational and Technical College) ,  An Caihong (Leshan Vocational and Technical College) ,  Wan Jiguang (Leshan Vocational and Technical College) ,  Xu Yanmei (College of Mathematics and Physics,North China Electric Power University(Baoding))
資料名： Cailiao Kexue Yu Gongcheng Xuebao  (Cailiao Kexue Yu Gongcheng Xuebao)
巻： 34  号： 5  ページ： 776-779,793  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2657A  ISSN： 1673-2812  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 異なるN2O流速条件下で,プラズマ化学蒸着(PECVD)により,ナノ結晶シリコン(NC)をドープしたシリコン酸化ケイ素(SIOX)薄膜を調製し,透過型電子顕微鏡(TEM)およびX線回折(XRD)により特性評価した。FOURIER変換赤外分光法(FTIR)と透過スペクトル技術を用いて,膜中の水素含有量と酸素含有量の変化と薄膜の結晶構造,膜結合構造,および光吸収特性に及ぼす影響を研究した。その結果,薄膜はNC-SI粒子と非晶質SIOXからなり,混合相構造であることが分かった。NC-SIの成長と酸化反応の競合は薄膜の微細構造,結合特性および光吸収特性を決定した。N_2O流量の増加とともに,膜の結晶粒度は減少した。結晶粒界面の割合は減少し,結晶粒界面は消失し,結晶粒界は連続的に増加する傾向を示した。この実験結果は,新しい太陽電池におけるNC-SI/SIOX薄膜の応用のための基礎データを提供した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： キャラクタリゼーション ,  *光吸収 ,  結晶粒界 ,  *薄膜 ,  太陽電池 ,  結晶構造 ,  透過型電子顕微鏡 ,  プラズマCVD ,  X線回折 ,  結晶粒度 ,  *酸化ケイ素 ,  *ドーピング
準シソーラス用語： 混合相 ,  透過スペクトル ,  *シリコン薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： FTIR ,  nc-Si ,  SiOx ,  bonding structure

分類 (3件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  アクリル樹脂  (YH07110K) ,  酸化物の結晶成長  (BK13050I)

タイトルに関連する用語 (6件)： モザイク ,  ドープ ,  酸化 ,  ケイ素薄膜 ,  微細構造 ,  光吸収特性