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J-GLOBAL ID：201702245492837851   整理番号：17A0307787

単層コロイド結晶に基づくマイクロ/ナノ球状レンズフォトリソグラフィーの最近の進歩【Powered by NICT】

Recent advancement on micro-/nano-spherical lens photolithography based on monolayer colloidal crystals

著者 (5件)： Zhang Ziming (Department of Chemistry, Tsinghua University, Beijing 100084, PR China) ,  Geng Chong (Department of Chemistry, Tsinghua University, Beijing 100084, PR China) ,  Hao Zhibiao (Department of Electronic Engineering, Tsinghua University, Beijing 100084, PR China) ,  Wei Tongbo (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100083, PR China) ,  Yan Qingfeng (Department of Chemistry, Tsinghua University, Beijing 100084, PR China)
資料名： Advances in Colloid and Interface Science  (Advances in Colloid and Interface Science)
巻： 228  ページ： 105-122  発行年： 2016年02月 
JST資料番号： B0923A  ISSN： 0001-8686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高度に秩序化したナノ構造が,それらの魅力的な性質と広い応用性のために,研究コミュニティにおいて相当な関心を集めている。ミクロ/ナノ球状レンズフォトリソグラフィー(SLPL)は高度に秩序化したナノ構造の生成への安価な,本質的に平行,かつ高生産性な対処法として認識されている。自己組織化コロイド状ミクロ/ナノ球の単分子層コロイド結晶(MCC)に基づくSLPLは最近,コスト,特徴サイズ,同調率,及びパターンの複雑性の点で従来のフォトリソグラフィーの制約を克服する顕著な進歩を遂げた。このレビューでは,この技術に基づく高度に秩序化したナノ構造の多様性と発光ダイオード,ナノパターン形成半導体,局在表面プラズモン共鳴デバイスへの応用例の作製に重点を置いたこの分野での現行最新技術を強調した。最後に,MCCベースSLPL技術の今後の展開,ナノファブリケーションのための他の半導体微細加工プロセスとMCCの品質とこの技術の適合性の向上に関する議論を含めについての展望を述べた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *コロイド ,  *フォトリソグラフィー ,  単分子層 ,  適応性 ,  発光ダイオード ,  ナノ構造 ,  半導体 ,  自己組織化 ,  微細加工
準シソーラス用語： ナノファブリケーション ,  局在表面プラズモン共鳴 ,  ナノパターニング ,  低価格 ,  *ナノボール ,  *コロイド結晶 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： マイクロ/ナノ球状レンズフォトリソグラフィー ,  単層コロイド結晶 ,  高度に規則化したナノ構造

分類 (1件)： コロイド化学一般  (CB11010C)

タイトルに関連する用語 (5件)： 単層 ,  コロイド結晶 ,  ナノ球 ,  レンズ ,  フォトリソグラフィー