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J-GLOBAL ID:201702245842186123   整理番号:17A0315782

パラジウムクラスタ上のNOの吸着と解離:荷電状態と金属ドーピングの重要性【Powered by NICT】

NO adsorption and dissociation on palladium clusters: The importance of charged state and metal doping
著者 (8件):
資料名:
巻: 658  ページ: 7-11  発行年: 2016年 
JST資料番号: B0824A  ISSN: 0009-2614  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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中性,荷電およびNiドープPd_13クラスタ上のNOの吸着と解離を密度汎関数計算を用いて調べた。著者らの結果は,NOは常に中空部位よりもむしろトップまたはブリッジサイトに優先的に吸着することを明らかにした。しかし,電荷状態およびNiドーピングは著しく吸着エネルギー,解離障壁と反応エネルギーに影響しなかった。Pd_13~-上の反応は最低エネルギー障壁と最大反応エネルギーを持っている。Hirshfeld電荷分析は,触媒活性の相違の起源はからの準安定NO吸着状態におけるNOへのクラスタ電荷移動であることを明らかにした。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (5件):
分類
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原子・分子のクラスタ  ,  原子とラジカルの反応  ,  無触媒気相反応  ,  荷電体衝撃・放電による反応  ,  対流圏・成層圏の地球化学 

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