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J-GLOBAL ID：201702245859741223   整理番号：17A0702291

高分子薄膜の脱濡れ挙動に及ぼす高分子構造の影響:直鎖からの環鎖へ【Powered by NICT】

The influence of polymer architectures on the dewetting behavior of thin polymer films: from linear chains to ring chains

著者 (6件)： Wang Lina (School of Materials Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin 300072, P. R. China. [e-mail]) ,  Xu Lin ,  Liu Binyuan ,  Shi Tongfei ,  Jiang Shichun ,  An Lijia
資料名： Soft Matter  (Soft Matter)
巻： 13  号： 17  ページ： 3091-3098  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2327A  ISSN： 1744-683X  CODEN： SMOABF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： の異なるグラフト密度とPDMS基板とシラン化したSi基板上に環ポリスチレン(RPS)膜と線状ポリスチレン(LPS)膜の脱濡れ挙動を調べた。結果は,高分子構造は高分子薄膜の脱濡れ挙動に大きく影響することを示した。69%のグラフト密度をもつシラン処理されたSi基板上では,RPS鎖はLPS鎖と比較してより強い吸着を示し,結果として濡れ層がより容易に形成した。LPS膜では,減少したアニーリング温度とともに,高分子膜の安定性は,見かけの滑り脱濡れによる滑りディウェッティングから明らかに安定に変化した。しかし,RPS膜,高分子膜の安定性は,見かけの滑り脱濡れから明らかに安定した。94%のグラフト密度をもつシラン処理されたSi基板上では,鎖吸着は弱くなり,脱濡れ過程は,LPSとRPS膜の両方に対して同じ実験温度で69%のグラフト密度を持つ基板上のそれよりも速かった。さらに,PDMS基板上に,LPS膜は常に滑り脱濡れを示したが,RPS膜の脱ぬれ速度は非滑り脱濡れから滑り脱濡れ挙動した。濡れ層を形成する高分子薄膜の安定性と脱濡れ挙動に強く影響した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： ポリスチレン ,  *高分子薄膜 ,  高分子膜 ,  ポリジメチルシロキサン ,  吸着 ,  シラン
準シソーラス用語： アニーリング温度 ,  シラン処理 ,  シリコンウエハ ,  グラフト率 ,  重合体構造 ,  *脱濡れ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高分子薄膜 ,  脱濡れ ,  挙動 ,  高分子構造