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J-GLOBAL ID：201702245861127768   整理番号：17A0310659

イライトへのTh(IV)の吸着挙動:接触時間,pH,イオン強度,フミン酸,および温度の影響【Powered by NICT】

Adsorption behavior of Th(IV) onto illite: Effect of contact time, pH value, ionic strength, humic acid and temperature

著者 (7件)： Hongxia Zhang (Radiochemistry Laboratory, School of Nuclear Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou, 730000, PR China) ,  Hongxia Zhang (Key Laboratory of Special Function Materials and Structure Design, Ministry of Education, Lanzhou University, Lanzhou, 730000, PR China) ,  Xiaoyun Wang (Radiochemistry Laboratory, School of Nuclear Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou, 730000, PR China) ,  Honghong Liang (Radiochemistry Laboratory, School of Nuclear Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou, 730000, PR China) ,  Tianshe Tan (Radiochemistry Laboratory, School of Nuclear Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou, 730000, PR China) ,  Wangsuo Wu (Radiochemistry Laboratory, School of Nuclear Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou, 730000, PR China) ,  Wangsuo Wu (Key Laboratory of Special Function Materials and Structure Design, Ministry of Education, Lanzhou University, Lanzhou, 730000, PR China)
資料名： Applied Clay Science  (Applied Clay Science)
巻： 127-128  ページ： 35-43  発行年： 2016年07月 
JST資料番号： B0687B  ISSN： 0169-1317  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 時間,pH,イオン強度,温度,およびフミン酸(HA)の関数としてイライト上のTh(IV)の吸着実験を,バッチ実験を用いて調べた。結果はイライト上のTh(IV)の吸着は接触時間,pH,及び温度に強く依存し,フミン酸(HA)に依存しないことを示した。イライト上のTh(IV)吸着はpH(pH<4.5)と温度の増加に伴って増加したが,pH<4.5ではイオン強度の増加と共に減少した。Th(IV)吸着データは擬二次速度モデル及び粒子内拡散方程式によって記述することができた。Langmuir吸着等温線モデルがFreundlichモデルよりも吸着過程をシミュレートした。エンタルピー,エントロピー及び自由エネルギー変化の熱力学的パラメータを計算し,熱力学的パラメータは,イライトに吸着Th(IV)の自発的で発熱性の性質を明らかにした。イライトへの吸着機構のTh(IV)は低pHでイライト上のNa~+/H+~+と外圏表面錯化とイオン交換であるが,内側の球表面錯化は高pHでの主要吸着機構であった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 錯体生成 ,  *イオン強度 ,  *イライト ,  イオン交換 ,  エントロピー ,  *フミン酸 ,  吸着等温式 ,  *吸着 ,  自由エネルギー ,  *接触時間
準シソーラス用語： 吸着機構 ,  熱力学パラメータ ,  Freundlichモデル ,  粒子内拡散 ,  速度モデル , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： Th(IV) ,  イライト ,  吸着 ,  HA ,  イオン強度 ,  温度

分類 (4件)： 珪酸塩鉱物  (DE08030A) ,  吸着剤  (YB03000W) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  土壌鉱物  (FB04090F)

タイトルに関連する用語 (8件)： イライト ,  Th ,  吸着 ,  挙動 ,  接触時間 ,  pH ,  イオン強度 ,  フミン酸