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J-GLOBAL ID:201702247742521715   整理番号:17A0473233

150°Cでの原子層蒸着により成長したZnO/Al_2O_3超格子構造の構造的および光学的性質に及ぼす焼なましの影響【Powered by NICT】

Effect of annealing on structural and optical properties of ZnO/Al2O3 superlattice structures grown by atomic layer deposition at 150 °C
著者 (5件):
資料名:
巻: 703  ページ: 225-231  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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ナノ積層構造,ZnO/Al_2O_3超格子は150°CでSi,サファイアおよび石英基板上に原子層堆積(A LD)により成長させた。形態学的研究は,ZnOにAl_2O_3のサイクルの混合比の増加は,ZnO微結晶の核形成と成長の抑制を介して表面平滑性を増加させる傾向があることを示した。X線回折研究から,ZnO微結晶の配向もあるA LD条件下でZnOにAl_2O_3のサイクル比を変えることによって影響されることを明らかにした。成長後アニーリングによるZnO/Al_2O_3ナノラミネートの形態的,構造的および光学的性質の変化は原子相互拡散は高温で起こり,非晶質Al_2O_3層中のZn原子の活性化/拡散である結晶ZnO層中のAl原子のそれよりもはるかに容易/より速いという証拠を提供する。二次イオン質量分光法により測定したAl-O,Zn,とAl-Hイオンの深さプロファイルを比較して,著者らはA LDプロセスに採用した広範なパージ時間が水素はAl_2O_3/ZnOナノラミネートのままであることを見出した。元素水素濃度はA LDプロセスは,ZnOからAl_2O_3に切り替わるが界面よりもむしろ逆転,強く以前の報告[Chem.Mater.15,p.1020(2003)]で観測されたエッチング挙動と相関するで高かった。著者らの知見は,更なる発展に及ぼす光と実用的なデバイス応用のためのZnO/Al_2O_3超格子構造のA LDプロセスを明らかにした。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
無機化合物のルミネセンス  ,  酸化物薄膜 

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