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J-GLOBAL ID：201702248448718024   整理番号：17A0407564

二重同時スパッタリングにより作製したBi_5Nb_3O_15薄膜の合成と性質【Powered by NICT】

Synthesis and properties of Bi₅Nb₃O₁₅ thin films prepared by dual co-sputtering

著者 (8件)： Depablos-Rivera Osmary (Instituto de Investigaciones en Materiales, UNAM, Circuito Exterior s/n CU, Mexico D.F., 04510, Mexico) ,  Depablos-Rivera Osmary (Posgrado en Ciencia e Ingenieria de Materiales, UNAM, Unidad de Posgrado, Edificio C, Piso 1, Zona Cultural de CU, Mexico, D.F., 04510, Mexico) ,  Medina Juan C. (Instituto de Investigaciones en Materiales, UNAM, Circuito Exterior s/n CU, Mexico D.F., 04510, Mexico) ,  Medina Juan C. (Posgrado en Ciencia e Ingenieria de Materiales, UNAM, Unidad de Posgrado, Edificio C, Piso 1, Zona Cultural de CU, Mexico, D.F., 04510, Mexico) ,  Bizarro Monserrat (Instituto de Investigaciones en Materiales, UNAM, Circuito Exterior s/n CU, Mexico D.F., 04510, Mexico) ,  Martinez Ana (Instituto de Investigaciones en Materiales, UNAM, Circuito Exterior s/n CU, Mexico D.F., 04510, Mexico) ,  Zeinert Andreas (Laboratoire de Physique de la Matiere Condensee, Universite de Picardie Jules Verne, 33 rue Saint Leu, 80039, Amiens Cedex 1, France) ,  Rodil Sandra E. (Instituto de Investigaciones en Materiales, UNAM, Circuito Exterior s/n CU, Mexico D.F., 04510, Mexico)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 695  ページ： 3704-3713  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ビスマス系酸化物は光生成キャリアの移動度を増強することをそれらの特別な電子構造のため注目を集めている。本研究では,合成,およびBi_5Nb_3O_15膜の物理的および光触媒特性の評価に焦点を当てた。ビスマスニオブ酸膜を二重マグネトロン同時スパッタリングにより蒸着した,Bi_2O_3とNb独立駆動ターゲットから発生していた。基板は蒸着の間150°Cに加熱したが,膜は非晶質であった;したがって,それらは空気中で2時間600°Cで焼なましたナノ結晶Bi_5Nb_3O_15斜方晶相を得た。Bi_5Nb_3O_15化合物は高周波範囲で高k誘電体値のために,マイクロエレクトロニクスへの応用のための興味ある材料である;他の可能な,報告された応用は,有機汚染物質と水分解プロセスの分解のための光触媒としてである。膜構造をX線回折(θ-2θと面内モード)により確認した。は過去に報告されていないのでRamanおよび赤外スペクトルを測定し,比較して計算した振動モードであった。Bi_5Nb_3O_15膜の光学的性質(屈折率,消光および吸収係数)をUV-VIS反射率と透過率分光法を用いて評価した。光学バンドギャップは3.25eVで間接基本バンド間遷移を仮定して推定した。光触媒としてBi_5Nb_3O_15膜を使用する前向きは三pH:3.5と7と11でのUV光照射下でインジゴカルミン(IC)染料溶液(5 ppm)の光退色の測定により評価した。結果は酸性pHでのみ照射時間の関数としてのIC溶液の吸収スペクトルの減少を示した分解のほぼ100%が270分で達成された;この挙動はおそらく正に帯電した表面上のIC分子の吸着の増加によるものであった。膜の,構造変化を伴わない,5サイクル後に観察された類似の応答。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 屈折率 ,  赤外スペクトル ,  吸収係数 ,  *光触媒 ,  ナノ結晶 ,  光学ギャップ ,  振動モード ,  ビスマス ,  反射率 ,  膜構造 ,  透過率 ,  X線回折 ,  紫外線
準シソーラス用語： 水分解 ,  *同時スパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 酸化物材料 ,  薄膜 ,  蒸着 ,  光学的性質 ,  X線回折 ,  光触媒評価

分類 (5件)： 変態組織,加工組織  (WB01030N) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  磁気的性質  (WB02020J) ,  その他の物理的・機械的性質  (WB02040F)

タイトルに関連する用語 (4件)： 同時スパッタリング ,  作製 ,  薄膜 ,  性質