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J-GLOBAL ID:201702249654681119   整理番号:17A0703934

同時スパッタリング法で作製した結晶性YbAl_3薄膜の同時改良された電気的性質【Powered by NICT】

Simultaneously improved electrical properties of crystalline YbAl3 thin films prepared by co-sputtering technique
著者 (9件):
資料名:
巻:号: 28  ページ: 17271-17278  発行年: 2017年 
JST資料番号: U7055A  ISSN: 2046-2069  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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小型化熱電素子の開発に関心が高まっているので,高い電気伝導率と大きな力率を持つ熱電薄膜を調製するのに強い要求されてきている,小型化デバイスは大きな冷却能力と大きな出力パワーを持つ確保。本研究では,二重ターゲットマグネトロン共スパッタリング法とそれに続くアニーリング処理による金属間化合物YbAl_3薄膜の調製を示した。薄膜のその後の熱処理は,結晶性,化学量論,およびナノ構造YbAl_3薄膜を達成するのに重要な役割を果たしていることを明らかにした。有意に改善された結晶性と化学量論からの恩恵を受けて,最適化YbAl_3薄膜は非常に高い電気伝導率7.4mW m~ 1K~ 2約1.7×10~6Sm~ 1と大きな力率に達することを示した。アニールした薄膜の性能指数ZTは,バルク材料のそれと同等であり,小型化熱電素子におけるそれらの潜在的使用を示している。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
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半導体薄膜  ,  半導体結晶の電気伝導  ,  塩基,金属酸化物 
タイトルに関連する用語 (5件):
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