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J-GLOBAL ID:201702250609799852   整理番号:17A0309880

BiFeO_3薄膜のその場共鳴光電子放出及びX線吸収研究【Powered by NICT】

An in situ resonant photoemission and x-ray absorption study of the BiFeO3 thin film
著者 (10件):
資料名:
巻: 42  号:ページ: 10624-10630  発行年: 2016年07月 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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マルチフェロイックビスマスフェライト(BiFeO_3)薄膜をパルスレーザ蒸着(PLD)法を用いて調製した。膜の電子構造を光電子放出分光法(PES)とX線吸収分光法(XAS)を用いてその場研究した。Feの2p PESとXASスペクトルは,Feイオンは最初に原子価状態であることを示している。Feの2pとOのK端XASスペクトルは,酸素八面体結晶配位子場は非占有Feの3d状態を分割t_2g↓およびe_g↓状態へのことを示している。価電子帯Feの2p-3d共鳴光電子放出の結果は,Feの3dとOの零二p間の混成がBiFeO_3薄膜のマルチフェロイック特性に重要な役割を果たすことを示す。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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セラミック・磁器の性質 
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