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J-GLOBAL ID：201702251211865228   整理番号：17A0453263

高周波バイアスを用いたパルス変調誘導結合プラズマ放電の流体シミュレーション【Powered by NICT】

Fluid simulation of a pulse-modulated, inductively coupled plasma discharge with radio frequency bias

著者 (4件)： Jeong YoungDo (School of Electronics and Information Engineering, Korea Aerospace University, Goyang, Gyeonggi 412-791, Republic of Korea) ,  Lee Young Jun (School of Electronics and Information Engineering, Korea Aerospace University, Goyang, Gyeonggi 412-791, Republic of Korea) ,  Kwon Deuk-Chul (Plasma Technology Research Center, National Fusion Research Institute, Gunsan, Jeollabuk 573-540, Republic of Korea) ,  Choe HeeHwan (School of Electronics and Information Engineering, Korea Aerospace University, Goyang, Gyeonggi 412-791, Republic of Korea)
資料名： Current Applied Physics  (Current Applied Physics)
巻： 17  号： 3  ページ： 403-408  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1579A  ISSN： 1567-1739  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルス変調誘導結合プラズマ放電における無線周波数(RF)パワーのプラズマ特性を調べた。二次元軸対称構造を流体モデルに基づいてシミュレートした。添加では,中性種のエネルギーと移動度を考慮した。電力はOFFからONに切り替えたとき,電子密度と電子温度は瞬間的に変化した。力はOFF時,時間上の電子密度と電子温度のプロファイルを解析した。さらに,イオンエネルギー分布関数は,いくつかのRFバイアス条件を用いて調べた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *電磁結合 ,  電子密度 ,  *HF【周波数】 ,  電子温度 ,  二次元 ,  *バイアス ,  *放電 ,  移動度 ,  分布関数 ,  軸対称性 ,  *パルス変調
準シソーラス用語： イオンエネルギー ,  無線周波数 ,  *流体シミュレーション ,  *プラズマ放電 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： プラズマシミュレーション ,  ICP放電 ,  パルスICP ,  RFバイアス効果 ,  GECセル

分類 (2件)： プラズマ一般  (BJ02010B) ,  プラズマ診断  (BJ02090L)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高周波バイアス ,  パルス変調 ,  誘導結合プラズマ ,  放電 ,  流体シミュレーション