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J-GLOBAL ID：201702252147610196   整理番号：17A0392693

A-IGZO薄膜の光学的性質に及ぼすH_2O_2の影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Influence of hydrogen peroxide on optical properties of a-IGZO thin films by solution Process

著者 (4件)： Tang Meng (School of Internet of Things,Jiangnan University) ,  Li Yongnan (School of Internet of Things,Jiangnan University) ,  Yin Bo (School of Internet of Things,Jiangnan University) ,  Zhong Chuanjie (School of Internet of Things,Jiangnan University)
資料名： Yejing yu Xianshi  (Yejing yu Xianshi)
巻： 31  号： 12  ページ： 1124-1130  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1519A  ISSN： 1007-2780  CODEN： YYXIFY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： A-IGZO薄膜を,溶液スピンコーティングと高圧アニーリングによって調製した。薄膜の表面構造と光学的性質に及ぼすH_2O_2の影響を,偏光光学顕微鏡(AFM)と原子間力顕微鏡(AFM)を用いて研究した。実験結果により,A-IGZO前駆体溶液中にH_2O_2を含まない薄膜は,220°Cから300°Cへのアニーリング温度の増加とともに,光学バンドギャップは3.03から3.29に増加し,一方,膜の表面粗さは,20.69NMから4.68NMに減少した。同じ高圧アニーリング条件下で,H_2O_2を添加しない膜と比較して,屈折率は著しく増加し,膜の表面粗さは減少した。アニーリング温度が300°Cのとき,膜の光学バンドギャップは3.29EVから3.34EVに増加し,表面粗さは4.68NMから2.89NMに減少した。そのため、H_2O_2は比較的低温条件下で薄膜の内部の有機物の残留及び欠陥を効果的に低下させ、より緻密なA-IGZO薄膜を形成することができる。H_2O_2を用いることにより,A-IGZO薄膜の調製に必要なアニーリング温度を効果的に低下させることができることを証明した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 光学顕微鏡 ,  光学ギャップ ,  焼なまし ,  原子間力顕微鏡 ,  *光学的性質 ,  屈折率 ,  表面構造 ,  スピンコーティング ,  低温 ,  偏光 ,  *薄膜 ,  高圧 ,  有機物
準シソーラス用語： アニーリング温度 ,  *酸化インジウム・ガリウム・亜鉛 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： a-IGZO film ,  H_2O_2 solution ,  spectroscopic ellipsometry ,  dense

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜 ,  光学的性質 ,  研究