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J-GLOBAL ID：201702252549258254   整理番号：17A0124348

30keV電子ビーム電圧での前処置法を用いたAl/AlO_x/Al接合の作製【Powered by NICT】

Fabrication of Al/AlO_x/Al junctions using pre-exposure technique at 30-keV e-beam voltage

著者 (6件)： Lan Dong (School of Physics, Nanjing University) ,  Xue Guangming (School of Physics, Nanjing University) ,  Liu Qiang (School of Physics, Nanjing University) ,  Tan Xinsheng (School of Physics, Nanjing University) ,  Yu Haifeng (School of Physics, Nanjing University) ,  Yu Yang (School of Physics, Nanjing University)
資料名： Chinese Physics B  (Chinese Physics B)
巻： 25  号： 8  ページ： 088501-1-088501-04  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1539A  ISSN： 1674-1056  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 改善ブリッジを用いた高品質Al/AlO_χ/Al接合と30keV電子ビーム電圧で橋自由技術,アンダーカットの長さと接合のサイズは前曝露法により良く制御できるを作製した。線量窓は通常Dolanブリッジ法で使用されているものより5倍大きく,この方法ははるかにロバストである。100keV電子ビームライタを用いて達成されたものに匹敵し,同様の結果が得られ,これは30keV電子ビームライタは超伝導キュービット製作のための経済的選択であることを示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： ロバスト性 ,  *前処理 ,  超伝導 ,  アンダカット ,  *電子ビーム ,  放射線量 ,  *電圧
準シソーラス用語： 量子ビット , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Josephson接合 ,  前曝露 ,  30keV電子ビーム電圧 ,  超伝導量子ビット

分類 (9件)： 加工工程とその装置一般  (YH04010G) ,  CAD,CAM  (JE10000A) ,  信号理論  (ND02020G) ,  その他の成形  (YH04090Q) ,  射出成形  (YH04050Y) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I) ,  ロボットの運動・制御  (IC04012J) ,  機械設計  (QA01080H) ,  パターン認識  (JE07000S)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子ビーム ,  処置法 ,  Al ,  作製