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J-GLOBAL ID：201702252681858838   整理番号：17A0411805

視射角蒸着モードにおける回転昇華蒸気噴散源を用いて成長させたCdTe膜【Powered by NICT】

CdTe films grown using a rotating sublimate vapor effusion source in glancing angle deposition mode

著者 (5件)： Daza L.G. (Department of Applied Physics, CINVESTAV-IPN, Unidad Merida, 97310 Merida, Yucatan, Mexico) ,  Castro-Rodriguez R. (Department of Applied Physics, CINVESTAV-IPN, Unidad Merida, 97310 Merida, Yucatan, Mexico) ,  Martin-Tovar E.A. (Department of Applied Physics, CINVESTAV-IPN, Unidad Merida, 97310 Merida, Yucatan, Mexico) ,  Iribarren A. (Department of Applied Physics, CINVESTAV-IPN, Unidad Merida, 97310 Merida, Yucatan, Mexico) ,  Iribarren A. (Instituto de Ciencia y Tecnologia de Materiales, Universidad de La Habana, Zapata y G, Vedado, La Habana 10400, Cuba)
資料名： Materials Science in Semiconductor Processing  (Materials Science in Semiconductor Processing)
巻： 59  ページ： 23-28  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1055A  ISSN： 1369-8001  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CdTeの薄膜を視射角蒸着基板モードと組み合わせた回転昇華蒸気排出源を用いてガラス基板上に堆積した。試料は同様に40rpmで回転する源と反対方向に55rpmの基板回転を用いたα=0°,40°,50°と60°の異なる入射沈着フラックス角を用いて調製した。走査電子および原子間力顕微鏡画像は0°基板回転有りおよび無しの試料は種々の形状と寸法を持つ緻密な柱状構造を示した。しかし,基板回転の試料は均一な形状を持つ緻密な合体した柱状構造を示した。基板を同時に傾斜と回転すると柱状形態である,より明確な個性。X線回折測定は,すべての試料がCdTe立方相構造,50°試料の~75nmの結晶サイズに対応する390.4arcsecの(111)Bragg反射の半値全幅を持った回折ピークを示すに結晶化することを示した。αが増加するのに従って,結晶サイズは減少した。α=50°と60°で成長させた試料でより低い波長領域に向かってシフトの見かけの吸収端は柱状構造による光散乱に起因した。すべての試料の光学バンドギャップは~1.5eVの平均値を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 吸収端 ,  X線回折 ,  原子間力顕微鏡 ,  *噴散 ,  結晶 ,  *テルル化カドミウム ,  光学ギャップ ,  Bragg反射 ,  沈着 ,  構造特性 ,  FWHM
準シソーラス用語： 柱状構造 ,  ガラス基板 ,  排出源 ,  *斜め蒸着 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： テルル化カドミウム ,  薄膜 ,  柱状構造 ,  視射角蒸着 ,  構造特性 ,  表面地形特性

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： 視射角蒸着 ,  昇華 ,  蒸気 ,  噴散 ,  成長 ,  CdTe