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J-GLOBAL ID：201702252914467283   整理番号：17A0847911

エラストマーナノ薄膜のドライ転写を用いたMEMS光干渉型表面応力センサ

An elastomer-based MEMS optical interferometric surface-stress sensor developed by dry transfer technique

著者 (5件)： 高橋一浩 (豊橋技科大) ,  澤田和明 (豊橋技科大) ,  藤枝俊宣 (早稲田大) ,  佐藤信孝 (早稲田大) ,  武岡真司 (早稲田大)
資料名： 電気学会バイオ・マイクロシステム研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： BMS-17  号： 19-31  ページ： 25-29  発行年： 2017年06月29日 
JST資料番号： L6187A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ゴム ,  *干渉計 ,  *表面応力 ,  *圧力センサ ,  *抗原抗体反応 ,  *MEMS ,  SBS【重合体】 ,  *バイオセンサ ,  ナノシート ,  *超薄膜 ,  変位測定 ,  Young率 ,  膜厚 ,  パターン転写 ,  反射スペクトル ,  ポリキシリレン ,  塩素化重合体 ,  エラストマ ,  *光干渉計 ,  ナノ薄膜 ,  パリレンC ,  *反応 ,  *免疫応答
準シソーラス用語： 表面応力センサ

分類 (4件)： 力,仕事量,圧力,摩擦の計測法・機器  (AD05050V) ,  分析機器  (CC02020S) ,  干渉測定と干渉計  (BD07070G) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： エラストマー ,  ナノ薄膜 ,  転写 ,  MEMS ,  光干渉 ,  応力センサ