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J-GLOBAL ID：201702254576348014   整理番号：17A1139154

転写プリント法を用いたフォトニックナノ構造の作製と評価

著者 (11件)： 不破麻里亜 (東大 ナノ量子機構) ,  田尻武義 (東大 生産技研) ,  勝見亮太 (東大 生産技研) ,  石田丈 (東大 生産技研) ,  玉田晃均 (東大 生産技研) ,  渡邉克之 (東大 ナノ量子機構) ,  太田泰友 (東大 ナノ量子機構) ,  岩本敏 (東大 ナノ量子機構) ,  岩本敏 (東大 生産技研) ,  荒川泰彦 (東大 ナノ量子機構) ,  荒川泰彦 (東大 生産技研)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.6a-A405-7  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ナノ構造 ,  固体素子 ,  光学素子 ,  *フォトニック結晶 ,  *パターン形成 ,  パターン転写 ,  印刷 ,  光制御 ,  多層膜 ,  三次元 ,  ゴム ,  粘着力
準シソーラス用語： エラストマ ,  ナノ多層膜 ,  フォトニックデバイス ,  マイクロコンタクトプリント法

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

タイトルに関連する用語 (3件)： 転写プリント ,  作製 ,  評価