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J-GLOBAL ID：201702255154926008   整理番号：17A0759395

Cu/SiまたはCu/SiO_2接触系における極薄非晶質Al-Ni合金膜のバリヤ特性【Powered by NICT】

Barrier properties of ultrathin amorphous Al-Ni alloy film in Cu/Si or Cu/SiO₂ contact system

著者 (11件)： Chen J. H. (Hebei Key Lab of Optic-Electronic Information and Materials, College of Physics Science and Technology, Hebei University, Baoding 071002, P.R. China) ,  Huo J. C. (Hebei Key Lab of Optic-Electronic Information and Materials, College of Physics Science and Technology, Hebei University, Baoding 071002, P.R. China) ,  Dai X. H. (Hebei Key Lab of Optic-Electronic Information and Materials, College of Physics Science and Technology, Hebei University, Baoding 071002, P.R. China) ,  Wei L. J. (Hebei Key Lab of Optic-Electronic Information and Materials, College of Physics Science and Technology, Hebei University, Baoding 071002, P.R. China) ,  Wei L. J. (College of Science and Technology, North China Electric Power University, Baoding, Hebei 071051, P.R. China) ,  Guo J. X. (Hebei Key Lab of Optic-Electronic Information and Materials, College of Physics Science and Technology, Hebei University, Baoding 071002, P.R. China) ,  Li X. H. (State Key Laboratory of Metastable Materials Science and Technology, Yanshan University, Hebei 066004, P.R. China) ,  Wang L. H. (Department of Materials Science and Engineering, Hubei University, Wuhan 430062, P.R. China) ,  Lu C. J. (Department of Materials Science and Engineering, Hubei University, Wuhan 430062, P.R. China) ,  Wang J. B. (Department of Physics, Wuhan University, Wuhan 430072, P.R. China) ,  Liu B. T. (Hebei Key Lab of Optic-Electronic Information and Materials, College of Physics Science and Technology, Hebei University, Baoding 071002, P.R. China)
資料名： Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science  (Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)
巻： 214  号： 2  ページ： ROMBUNNO.201600522  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0774A  ISSN： 1862-6300  CODEN： PSSABA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： サンドイッチ方式Cu/バリア/SiとCu/barrier/SiO_2/Siの障壁層としての超薄非晶質Al-Ni(a Al Ni)膜の拡散障壁性能を研究した。種々の温度でアニールした試料のミクロ組織,電気的性質,表面形態,及び界面を,X線回折(XRD),シート抵抗測定,原子間力顕微鏡(A FM),および透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて測定した。結果は4nm厚のa Al Niは750°Cまで良好な熱安定性を達成することができる示した。Cuシリサイドは800°CまでのXRDデータでは観測できないしかし,シート抵抗値の急激な増加と800°Cでアニールした試料のA FM像に現れる島状結晶粒が障壁構造の破壊を示した。障壁層の破壊機構を議論し,結晶粒界の溝形成に沿ったCu膜の脱濡れに起因すると考えられる。障壁層とその隣接層と明確な界面の非晶質化は,高分解能TEMにより確認した。もCu膜の成長方位と表面形態は障壁層下の基板(単結晶Siと非晶質SiO_2)に関係することが分かった。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *銅 ,  アルミニウム ,  結晶粒界 ,  原子間力顕微鏡 ,  ケイ化物 ,  界面 ,  *非晶質 ,  透過型電子顕微鏡 ,  拡散障壁 ,  結晶粒 ,  アモルファス化 ,  熱安定性 ,  シート抵抗
準シソーラス用語： 脱濡れ ,  表面形態 ,  バリア層 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 合金 ,  非晶質材料 ,  銅 ,  拡散障壁 ,  連けいさせるか ,  メタライゼーション

分類 (1件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (6件)： Cu ,  Si ,  非晶質 ,  Al ,  Ni合金 ,  バリヤ