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J-GLOBAL ID：201702256497028080   整理番号：17A0412345

Au/TS- 1触媒上での低温におけるH_2とO_2を用いたプロピレンの気相エポキシ化のためのより良い性能【Powered by NICT】

Better performance for gas-phase epoxidation of propylene using H₂ and O₂ at lower temperature over Au/TS-1 catalyst

著者 (5件)： Li Zhishan (School of Chemical Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, Jiangsu, People’s Republic of China) ,  Wang Yanan (School of Chemical Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, Jiangsu, People’s Republic of China) ,  Zhang Jihai (School of Chemical Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, Jiangsu, People’s Republic of China) ,  Wang Dongyu (School of Chemical Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, Jiangsu, People’s Republic of China) ,  Ma Weihua (School of Chemical Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, Jiangsu, People’s Republic of China)
資料名： Catalysis Communications  (Catalysis Communications)
巻： 90  ページ： 87-90  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1328A  ISSN： 1566-7367  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 沈殿剤としてCs_2CO_3と析出沈殿(DP)法で調製したチタンシリカライト-1触媒(Au/TS 1)上に担持されたナノ金はプロピレンの気相エポキシ化について試験した。興味深いことに,より低い温度(164°C)でPO選択性とH_2効率を含む触媒性能はより高い温度(200°C)でのそれより良好であり,これは主としてAu粒径の変化に起因する。しかし,触媒表面上の炭素析出物と共に触媒の表面酸量はほとんど影響を及ぼさなかった。164°Cは有望な反応温度である可能性がある。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 酸性度 ,  *エポキシ化 ,  金 ,  *低温 ,  反応温度 ,  沈殿試薬 ,  粒径 ,  沈殿 ,  *気相 ,  触媒活性 ,  *触媒 ,  アルケン
準シソーラス用語： 炭素析出 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： TS-1 ,  ナノ金 ,  プロピレンエポキシ化 ,  反応温度 ,  より良い性能

分類 (2件)： 酸化,還元  (CF02060T) ,  アルケン  (CF03030T)

物質索引 (1件)： プロピレン

タイトルに関連する用語 (7件)： Au ,  TS ,  触媒 ,  低温 ,  プロピレン ,  気相 ,  エポキシ化