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J-GLOBAL ID：201702257954959743   整理番号：17A0471216

液体噴流中のワイヤターゲットのレーザアブレーションによる高生産と連続ナノ粒子作製【Powered by NICT】

High productive and continuous nanoparticle fabrication by laser ablation of a wire-target in a liquid jet

著者 (11件)： Kohsakowski Sebastian (University of Duisburg-Essen, Technical Chemistry I and Center of Nanointegration Duisburg-Essen (CENIDE), Universitaetsstrasse 7, Essen D-45141, Germany) ,  Kohsakowski Sebastian (NanoEnergieTechnikZentrum-NETZ, Carl-Benz-Strasse 199, Duisburg D-47057, Germany) ,  Santagata Antonio (CNR-ISM, FLASH-IT UOS Tito Scalo, C.da S. Loja, Zona Industriale, Tito Scalo (PZ) I-85050, Italy) ,  Dell’Aglio Marcella (CNR-NANOTEC, Via Amendola 122/D, Bari I-70126, Italy) ,  de Giacomo Alessandro (CNR-NANOTEC, Via Amendola 122/D, Bari I-70126, Italy) ,  de Giacomo Alessandro (Department of Chemistry, University of Bari “Aldo Moro”, Via Orabona 4, Bari, Italy) ,  Barcikowski Stephan (University of Duisburg-Essen, Technical Chemistry I and Center of Nanointegration Duisburg-Essen (CENIDE), Universitaetsstrasse 7, Essen D-45141, Germany) ,  Barcikowski Stephan (NanoEnergieTechnikZentrum-NETZ, Carl-Benz-Strasse 199, Duisburg D-47057, Germany) ,  Wagener Philipp (University of Duisburg-Essen, Technical Chemistry I and Center of Nanointegration Duisburg-Essen (CENIDE), Universitaetsstrasse 7, Essen D-45141, Germany) ,  Wagener Philipp (NanoEnergieTechnikZentrum-NETZ, Carl-Benz-Strasse 199, Duisburg D-47057, Germany) ,  Gokce Bilal (University of Duisburg-Essen, Technical Chemistry I and Center of Nanointegration Duisburg-Essen (CENIDE), Universitaetsstrasse 7, Essen D-45141, Germany)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 403  ページ： 487-499  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ粒子合成のための液体中でのパルスレーザアブレーションをスケールアップするために,著者らは一段取りで二つの有望な方法,ワイヤ形状ターゲットや小型液体層を組み合わせた。薄い液層を用いたナノ粒子生産性(5倍まで)の有意な増加が得られた。この増加は動力学,キャビテーション気泡の形状と少量の液体フィラメントの細線の出発点のような挙動に起因している。生産性の増加にもかかわらず,粒径は繰返し速度,液体層の厚さと線の直径のような生産性に関するアブレーションパラメータに依存しないことが分かった。キャビテーション気泡に加えて,レーザアブレートした材料と発生した小気泡の存在に関連した更なる遮蔽効果。得られた結果は,この装置は,標的置換を必要とせずに,連続とプロセス安定(粒径と品質)アブレーションプロセスを実現するための良好な戦略を提供できることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： スケールアップ ,  フィラメント ,  *ナノ粒子 ,  気泡 ,  *金属線 ,  細線 ,  粒径 ,  *レーザアブレーション
準シソーラス用語： 遮蔽効果 ,  繰返し速度 ,  キャビテーション気泡 ,  液体層 ,  パルスレーザアブレーション ,  ナノ粒子合成 ,  *液体噴流 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 銀ナノ粒子 ,  ワイヤアブレーション ,  NP生産性 ,  遮蔽効果 ,  キャビテーション気泡動力学

分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

タイトルに関連する用語 (6件)： 液体噴流 ,  ワイヤ ,  ターゲット ,  レーザアブレーション ,  ナノ粒子 ,  作製