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J-GLOBAL ID：201702259022225529   整理番号：17A0356890

室温での反応性マグネトロンスパッタリングによる酸化チタン薄膜の光学的性質と機械的性質を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Optical and Mechanical Properties of TiO_2 Films Prepared by DC Magnetron Sputtering at Room-Temperature

著者 (4件)： Xi Yingxue (School of Optoelectronic Engineering, Xi’an Technological University) ,  Wang Zhao (School of Optoelectronic Engineering, Xi’an Technological University) ,  He Aifeng (State Key Laboratory of Applied Physics-Chemistry, Shaanxi Applied Physics and Chemistry Research Institute) ,  Xu Junqi (School of Optoelectronic Engineering, Xi’an Technological University)
資料名： Biaomian Jishu  (Biaomian Jishu)
巻： 45  号： 11  ページ： 167-172  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2656A  ISSN： 1001-3660  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 目的:異なるスパッタリングパワーと酸素分圧下の酸化チタン薄膜の特性を比較し,その機械的性質と光学的性質の関係を分析する。方法:室温条件下で、直流反応性マグネトロンスパッタリング技術を用いて、K9ガラス基板上にTIO_2薄膜を堆積させ、紫外可視赤外分光光度計とエリプソメータにより薄膜の光学特性を分析し、ナノ技術により薄膜の力学特性を特性化した。結果:プロセスパラメータの範囲内で、薄膜の光学屈折率はナノ硬さと弾性率と正の相関があり、スパッタリング膜の増大により、調製した薄膜の屈折率、ナノ硬さと弾性率は増大するが、薄膜の光学バンドギャップはスパッタリングパワーの増大に伴い低下する。同時に、O_2流量は薄膜の光学的性質と力学性能に対する影響がより顕著であり、低O_2流量条件下で(Q(AR)/Q(O_2)=10:1)、薄膜の屈折率が減少し、バンドが大きくなる。O_2流量が減少すると(Q(AR)/Q(O_2)=20),膜の屈折率は増加し,バンドは減少したが,ナノ硬度と弾性率はO_2流量の減少と共に減少した。結論:マグネトロンスパッタリング堆積TIO_2薄膜の屈折率はその光学バンドギャップと逆相関するが、適量の酸素条件下で調製した薄膜の力学性能は光学特性と関連性がある。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： プロセスパラメータ ,  *薄膜 ,  *スパッタリング ,  ナノテクノロジー ,  *マグネトロン ,  屈折率 ,  光学ギャップ ,  直流 ,  スパッタ蒸着 ,  流量 ,  キャラクタリゼーション
準シソーラス用語： ナノ硬さ ,  ガラス基板 ,  酸素分圧 ,  *反応性マグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： reactive magnetron sputtering ,  TiO_2 films ,  refractive index ,  nano-hardness

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (6件)： 室温 ,  反応性マグネトロンスパッタリング ,  酸化チタン薄膜 ,  光学的性質 ,  機械的性質 ,  研究