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J-GLOBAL ID：201702259502187993   整理番号：17A0404346

都市廃水から微生物と抗生物質耐性遺伝子の除去のためのオゾン処理とUV_254_nm放射【Powered by NICT】

Ozonation and UV_{254 nm} radiation for the removal of microorganisms and antibiotic resistance genes from urban wastewater

著者 (10件)： Sousa Jose M. (LEPABE-Laboratory for Process Engineering, Environment, Biotechnology and Energy, Faculdade de Engenharia, Universidade do Porto, Rua Dr. Roberto Frias, 4200-465 Porto, Portugal) ,  Macedo Goncalo (Universidade Catolica Portuguesa, CBQF-Centro de Biotecnologia e Quimica Fina-Laboratorio Associado, Escola Superior de Biotecnologia, Rua Arquiteto Lobao Vital, Apartado 2511, 4202-401 Porto, Portugal) ,  Pedrosa Marta (Laboratory of Separation and Reaction Engineering-Laboratory of Catalysis and Materials (LSRE-LCM), Faculdade de Engenharia, Universidade do Porto, Rua Dr. Roberto Frias, 4200-465 Porto, Portugal) ,  Becerra-Castro Cristina (LEPABE-Laboratory for Process Engineering, Environment, Biotechnology and Energy, Faculdade de Engenharia, Universidade do Porto, Rua Dr. Roberto Frias, 4200-465 Porto, Portugal) ,  Becerra-Castro Cristina (Universidade Catolica Portuguesa, CBQF-Centro de Biotecnologia e Quimica Fina-Laboratorio Associado, Escola Superior de Biotecnologia, Rua Arquiteto Lobao Vital, Apartado 2511, 4202-401 Porto, Portugal) ,  Castro-Silva Sergio (Adventech-Advanced Environmental Technologies, Centro Empresarial e Tecnologico, Rua de Fundoees 151, 3700-121 Sao Joao da Madeira, Portugal) ,  Pereira M. Fernando R. (Laboratory of Separation and Reaction Engineering-Laboratory of Catalysis and Materials (LSRE-LCM), Faculdade de Engenharia, Universidade do Porto, Rua Dr. Roberto Frias, 4200-465 Porto, Portugal) ,  Silva Adrian M.T. (Laboratory of Separation and Reaction Engineering-Laboratory of Catalysis and Materials (LSRE-LCM), Faculdade de Engenharia, Universidade do Porto, Rua Dr. Roberto Frias, 4200-465 Porto, Portugal) ,  Nunes Olga C. (LEPABE-Laboratory for Process Engineering, Environment, Biotechnology and Energy, Faculdade de Engenharia, Universidade do Porto, Rua Dr. Roberto Frias, 4200-465 Porto, Portugal) ,  Manaia Celia M. (Universidade Catolica Portuguesa, CBQF-Centro de Biotecnologia e Quimica Fina-Laboratorio Associado, Escola Superior de Biotecnologia, Rua Arquiteto Lobao Vital, Apartado 2511, 4202-401 Porto, Portugal)
資料名： Journal of Hazardous Materials  (Journal of Hazardous Materials)
巻： 323  号： PA  ページ： 434-441  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0362A  ISSN： 0304-3894  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 従来の廃水処理は,抗生物質耐性菌と遺伝子(ARB&ARG)を低減するための限られた能力を持っている。三次処理プロセスが有望な解決策である,細菌の一時的な不活性化はARB&ARGを選択する可能性がある。本研究では,培養可能な菌類および細菌個体群,及び選択された遺伝子16S rRNA(全ての細菌に共通),intI1(グラム陰性細菌における共通)とARG vanA,bla_TEM,sul1とqnrSを不活性化するオゾン処理とUV_254nm放射の可能性を評価することを目的とした。廃水の体積当たりの異なる微生物学的パラメータの存在量は,培養可能な菌類と16S rRNAとintI1遺伝子の~2log単位減少し,~3 4log単位で,全従属栄養,腸内細菌と腸球菌,ARGの定量限界近くまたは以下の値まで,両方のプロセスに対して,30分の接触時間後であった。それにもかかわらず,オゾン処理後のqnrSを除いて,培養可能な個体群,16S rRNAとintI1遺伝子と同様にARGの大部分は3日貯蔵後の前処理レベルに達し,一時的よりもむしろ永久微生物不活性化を示唆した。注目すべきことに,16S rRNA遺伝子当たりの正規化は,ARGとintI1有病率の増加を証明し,主にUV_254_nm処理した。結果は,これらの三次処理はARB&ARG個体群の選択であるかもしれないことを示唆した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 従属栄養 ,  *遺伝子 ,  個体群 ,  *オゾン処理 ,  罹患率 ,  細菌 ,  *廃水 ,  前処理 ,  微生物学 ,  廃水処理 ,  不活性化 ,  *微生物 ,  16S rRNA ,  *抗生物質耐性遺伝子 ,  エンテロコッカス属 ,  *廃棄物 ,  *液状廃棄物 ,  レンサ球菌科
準シソーラス用語： Enterococcus , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 合成廃水 ,  都市廃水 ,  微生物不活性化 ,  微生物再成長 ,  抗生物質耐性遺伝子

分類 (2件)： 下水,廃水の生物学的処理  (SC03060H) ,  下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

タイトルに関連する用語 (6件)： 都市 ,  廃水 ,  微生物 ,  抗生物質耐性遺伝子 ,  オゾン処理 ,  放射