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J-GLOBAL ID：201702260356029983   整理番号：17A0665989

EXAFSとモデリング技術によるグラフェン酸化物ベース複合材料へのTh(IV)の除染への機構的洞察【Powered by NICT】

Mechanistic insights into the decontamination of Th(iv) on graphene oxide-based composites by EXAFS and modeling techniques

著者 (6件)： Sun Yubing (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, P.O. Box 1126, Hefei, 230031, Anhui, P.R. China. [e-mail]) ,  Wang Xiangxue ,  Song Wencheng ,  Lu Songhua ,  Chen Changlun ,  Wang Xiangke
資料名： Environmental Science: Nano  (Environmental Science: Nano)
巻： 4  号： 1  ページ： 222-232  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2463A  ISSN： 2051-8161  CODEN： ESNNA4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アミドキシム/グラフェン酸化物複合材料上のTh(IV)の収着機構を拡張X線吸収微細構造(EXAFS)スペクトルと表面錯体生成モデリングにより調べた。アミドキシム/グラフェン酸化物複合材料は,ヒドロキシル,カルボキシル,カルボニル,アミンとイミン基のような酸素と窒素含有官能基の多様性を有することが分かった。アミドキシム/グラフェン酸化物複合材料上のTh(IV)の収着動力学および収着等温線は擬二次動力学モデルおよびLangmuirモデルにより十分に適合できた。pHが2.0と293KでLangmuirモデルから計算したアミドキシム/グラフェン酸化物複合材料上のTh(IV)の最大吸着容量は123.46mg/g~( 1)であった。EXAFS分析によると,Th-Cシェル(R=2.97Å,CN=4.9)の存在はpH=2.0でアミドキシム/グラフェン酸化物複合材料上のTh(IV)の収着を支配した内側の球表面錯化ことを示したが,Th Thシェルの発生は,表面析出物はpH=5.0でアミドキシム/グラフェン酸化物複合材料上のTh(IV)の収着を支配していることを明らかにした。アミドキシム/グラフェン酸化物複合材料上のTh(IV)のpH依存性収着挙動は二つの内圏表面錯体と表面沈殿に基づく二重層モデルによりシミュレートできた。これらの観察は,アミドキシム/グラフェン酸化物複合材料は,環境浄化における水溶液からの4価放射性核種を除去するための有望な吸着剤とみなすことができることを明らかにした。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： モデル ,  収着 ,  吸着剤 ,  *EXAFS ,  pH依存性 ,  *トリウム ,  錯体生成 ,  *モデリング ,  *複合材料 ,  水溶液
準シソーラス用語： 吸着容量 ,  Langmuirモデル ,  官能基 ,  アミドキシム ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 吸着剤  (YB03000W) ,  下水,廃水の物理的処理  (SC03040L) ,  農業廃棄物の利用  (FB07050I) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  その他の汚染原因物質  (SB05040W)

タイトルに関連する用語 (7件)： EXAFS ,  モデリング ,  グラフェン酸化物 ,  複合材料 ,  Th ,  除染 ,  洞察