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J-GLOBAL ID：201702260721735170   整理番号：17A0703511

電気化学的にリチウム化シリコン薄膜の変形と破壊機構【Powered by NICT】

Deformation and failure mechanisms of electrochemically lithiated silicon thin films

著者 (5件)： Sitinamaluwa Hansinee (School of Chemistry, Physics and Mechanical Engineering, Queensland University of Technology (QUT), Brisbane, QLD 4001, Australia. [e-mail]) ,  Nerkar Jawahar ,  Wang Mingchao ,  Zhang Shanqing ,  Yan Cheng
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 7  号： 22  ページ： 13487-13497  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Li-Si系の機械的挙動の基本的な理解は非晶質シリコン(a Si)電極の貧弱な機械的完全性を述べるために必要である,Liイオン電池への巨大な能力を利用した。本研究では,電気化学的にリチオ化したa-Si薄膜の変形と破壊機構を,ナノインデンテーションと分子動力学シミュレーション法を用いて調べた。初期リチオ化/脱リチオ化サイクル後にa-Si薄膜の観察された亀裂は,基質によって制約された場合,開発した引張応力と関連している。MDシミュレーションが,電極内のリチウム濃度の増加と共に破壊機構の可塑性と転移の起源に関する原子論的洞察を提供した。実験とMDシミュレーションの両方は強度低下,弾性率を示したが,完全なリチオ化/脱リチオ化サイクル後のa-Si膜の延性を増加させ,微細構造の不規則性増加の結果であろう。また,ボイドの核形成と成長のマッピングは,元のおよび脱リチウム化したa-Si:Hにおける異なる破壊モードを示した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 引張応力 ,  リチオ化 ,  弾性係数 ,  *リチウム ,  *電気化学 ,  核形成 ,  *薄膜 ,  アモルファスシリコン ,  計算機シミュレーション ,  亀裂 ,  塑性 ,  ナノインデンテーション ,  電極 ,  分子動力学 ,  微細構造
準シソーラス用語： 分子動力学シミュレーション ,  *破壊機構 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 二次電池  (YB04030K)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電気化学 ,  リチウム ,  シリコン薄膜 ,  破壊