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J-GLOBAL ID：201702261385925959   整理番号：17A0698616

その光触媒活性の活性炭の表面化学の役割とUVまたは太陽放射下での酸化剤ラジカルの発生【Powered by NICT】

Role of activated carbon surface chemistry in its photocatalytic activity and the generation of oxidant radicals under UV or solar radiation

著者 (4件)： Velo-Gala I. (Department of Inorganic Chemistry, Faculty of Science, University of Granada, 18071 Granada, Spain) ,  Lopez-Penalver J.J. (Department of Inorganic Chemistry, Faculty of Science, University of Granada, 18071 Granada, Spain) ,  Sanchez-Polo M. (Department of Inorganic Chemistry, Faculty of Science, University of Granada, 18071 Granada, Spain) ,  Rivera-Utrilla J. (Department of Inorganic Chemistry, Faculty of Science, University of Granada, 18071 Granada, Spain)
資料名： Applied Catalysis. B: Environmental  (Applied Catalysis. B: Environmental)
巻： 207  ページ： 412-423  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0375A  ISSN： 0926-3373  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： UV放射と模擬太陽光照射下でのその光触媒活性における活性炭表面化学の役割を研究した。本研究では,市販の活性炭Witcoとそのガンマ線照射処理後に得られた五個の炭素試料を使用した,この方法は炭素ではなくその物理的性質の表面化学の改質を可能にする。ジアトリゾ酸ナトリウムは分解研究のためのモデル化合物として用いた。その劣化割合を用いて,放射と活性炭のタイプに依存する。炭素光触媒活性を説明するために,電子ホールの形成だけでなく,ヒドロキシルラジカル及びスーパーオキシドアニオンUV/activated炭素と太陽/活性炭系およびこれらの酸化剤化学種の濃度は,これらの材料の表面化学に依存することの形成を実証した。さらに,活性炭,より小さいバンドギャップを持つはヒドロキシルラジカルのより高い濃度を可能にするが,大きなバンドギャップを持つこのような炭素はスーパーオキシドアニオンの形成に有利であった。UV/activated炭素と太陽/活性炭システムによる汚染物質の分解も用いた光触媒は,従来のTiO_2であるときに得られた結果と比較した。光触媒として活性化炭素効率はUV照射下でTiO_2よりも高く,これは両システムで生成した酸化剤種の異なる濃度によるものである。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *太陽 ,  *光触媒 ,  化学種 ,  γ線照射 ,  紫外線照射 ,  ヒドロキシルラジカル ,  バンドギャップ ,  炭素 ,  *活性炭 ,  スーパーオキシドアニオン ,  紫外線 ,  汚染物質 ,  モデル化合物 ,  *界面化学
準シソーラス用語： *光触媒活性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： UV放射 ,  模擬太陽放射 ,  活性炭 ,  展望 ,  ラジカル種

分類 (1件)： 光化学反応  (CB08020F)

タイトルに関連する用語 (7件)： 光触媒活性 ,  活性炭 ,  表面化学 ,  役割 ,  太陽放射 ,  酸化剤 ,  ラジカル