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J-GLOBAL ID:201702261424602311   整理番号:17A0404128

RFマグネトロンスパッタリング法で成長させたSmCo_5薄膜の構造とナノ機械的性質に及ぼす熱処理の役割【Powered by NICT】

The role of heat treatment on the structural and nano-mechanical properties of SmCo5 thin films grown by RF magnetron sputtering technique
著者 (5件):
資料名:
巻: 43  号:ページ: 3893-3899  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,RFマグネトロンスパッタリング法により作製された,SmCo_5薄膜の構造,形態,およびナノ機械的性質に及ぼすアニーリング温度の影響を調べた。セット1μm厚SmCo_5薄膜を室温でSi(100)基板上に成長させ,続いてアルゴン雰囲気中で400°C,500°C,600°C及び700°Cでアニールした。これらの膜が観察されSmCo_5膜に対応する(110)優先配向の六方晶CaCu_5構造を有していた。SmCo_5薄膜の構造形態とナノ機械的性質を,すれすれ角入射X線回折(GIXRD),原子間力顕微鏡(A FM),走査電子顕微鏡(SEM)およびナノインデンテーション法を用いて調べた。結果は,堆積したままのSmCo_5薄膜は多結晶構造を有することを示した。熱処理後,両結晶子と粒径は増加し,薄膜の結晶度は改善した。さらに,SmCo_5薄膜のナノ硬度と還元弾性率はBerkovichチップを用いて測定した。ナノ硬度および弾性係数は焼なまし温度の上昇と共に減少した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 

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