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J-GLOBAL ID:201702263511876341   整理番号:17A0415866

オプトエレクトロニクス素子のためのアンチモン化物系半導体【Powered by NICT】

Antimonide-based semiconductors for optoelectronic devices
著者 (8件):
資料名:
巻: 2016  号: ICOCN  ページ: 1-3  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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有機金属化学蒸着によるGaAs中間層を持つGe基板上に成長させた高品質InAsSb膜を報告した。成長させたInAsSb膜の特性を系統的に解析した。はこの方法で成長させたInAsSb膜は非常に滑らかで,鏡のような形態,および高い光学的品質をもつ高品質を有することを見出している。特に,約3550nmで強いPLピークは室温,室温中赤外オプトエレクトロニクス応用のための成長させたInAsSb膜の能力を実証するでさえも観測できた。本研究では,Ge基板上の高品質InAsSb膜を成長させるための簡単で実行可能な戦略を提供した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
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半導体薄膜 
タイトルに関連する用語 (2件):
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