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J-GLOBAL ID：201702264036072644   整理番号：17A0470596

ブロック共重合体薄膜の再構築:溶媒蒸気アニーリング中のその場GISAXS研究【Powered by NICT】

Restructuring in block copolymer thin films: In situ GISAXS investigations during solvent vapor annealing

著者 (7件)： Posselt Dorthe (IMFUFA, Department of Science and Environment, Roskilde University, P.O. Box 260, 4000 Roskilde, Denmark) ,  Zhang Jianqi (Technische Universitaet Muenchen, Physik-Department, Physik weicher Materie, James-Franck-Str. 1, 85748 Garching, Germany) ,  Zhang Jianqi (National Center for Nanoscience and Technology (NCNST), No. 11 ZhongGuanCun BeiYiTiao, 100190 Beijing, PR China) ,  Smilgies Detlef-M. (Cornell High Energy Synchrotron Source (CHESS), Wilson Laboratory, Cornell University, Ithaca, NY 14853, USA) ,  Berezkin Anatoly V. (Technische Universitaet Muenchen, Physik-Department, Physik weicher Materie, James-Franck-Str. 1, 85748 Garching, Germany) ,  Potemkin Igor I. (Physics Department, Lomonosov Moscow State University, Moscow 119991, Russian Federation) ,  Papadakis Christine M. (Technische Universitaet Muenchen, Physik-Department, Physik weicher Materie, James-Franck-Str. 1, 85748 Garching, Germany)
資料名： Progress in Polymer Science  (Progress in Polymer Science)
巻： 66  ページ： 80-115  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0802A  ISSN： 0079-6700  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ブロック共重合体(BCP)薄膜は,ナノテクノロジー応用,ナノリソグラフィーのような数とナノテンプレート,ナノ多孔性膜やセンサとして提案されている。溶媒蒸気アニーリング(SVA)は治癒欠陥,例えば,BCP薄膜の構造の操作と制御,ミクロドメインの配向を変化させることによりと形態を変化させてのための強力な技術として出現した。SVA環境と高時間分解能と適合性のために,すれすれ入射小角X線散乱(GISAXS)はSVA過程を研究する,横方向と膜法線に沿ってBCP薄膜構造の情報を提供するために不可欠な技術である。特にシンクロトロン源で最新複合GISAXS/SVA装置は数秒の時間分解能でSVAプロセスのin situおよび実時間研究を促進し,SVAに誘起された再構成の経路と機構に重要な洞察を与えた。GISAXS法への短い導入を与え,最近の理論的研究,SVAプロトコルと共に試料調製とin situチャンバーなどの実験技術をレビューし,実験結果を概説し,考察した。SVAを用いたBCP薄膜構造を制御するための新しいアプローチと組み合わせたその場実時間GISAXS散乱法の新たな開発に展望を与えることにより結論した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *薄膜 ,  ナノテクノロジー ,  *再構成 ,  適応性 ,  プロトコル ,  *焼なまし ,  シンクロトロン ,  *ブロック共重合体 ,  試料調製 ,  ミクロドメイン ,  時間分解能
準シソーラス用語： 実時間 ,  ナノテンプレート ,  ナノリソグラフィー ,  *斜入射小角X線散乱 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 溶媒蒸気アニーリング ,  ブロック共重合体 ,  薄膜 ,  理論 ,  シミュレーション ,  GISAXS

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (7件)： ブロック共重合体 ,  薄膜 ,  再構築 ,  溶媒蒸気 ,  アニーリング ,  GISAXS ,  研究