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J-GLOBAL ID：201702264479257287   整理番号：17A0145228

残留応力の解析のための光学的方法とナノメータ領域における変位の測定【Powered by NICT】

Optical methods for the analysis of residual stresses and measurement of displacements in the nanometric range

著者 (5件)： Pedrini G. (Institut fuer Technische Optik, Universitaet Stuttgart, Germany) ,  Martinez-Garcia V. (Institut fuer Fertigungstechnologie Keramischer Bauteile, Universitaet Stuttgart, Germany) ,  Weidmann P. (Institut fuer Materialpruefung, Werkstoffkunde und Festigkeitslehre, Universitaet Stuttgart, Germany) ,  Singh A. (Institut fuer Technische Optik, Universitaet Stuttgart, Germany) ,  Osten W. (Institut fuer Technische Optik, Universitaet Stuttgart, Germany)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： INDIN  ページ： 570-575  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光学的方法は,計測のための有用な応用を持っている。ディジタルホログラフィーは,残留応力の決定に用いられる可能性を議論し,ナノメータ範囲の面内変位の測定のための技術を開発した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *残留応力
準シソーラス用語： 面内変位 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： ホログラフィー一般  (BD03071V) ,  干渉測定と干渉計  (BD07070G) ,  可視光によるホログラフィー  (BD03072M) ,  ホログラフィーの応用  (BD03074U)

タイトルに関連する用語 (5件)： 残留応力 ,  解析 ,  光学 ,  ナノメータ ,  変位