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J-GLOBAL ID:201702264539189335   整理番号:17A0737684

ZN_(0.85)MG_(0.13)AL_(0.020)薄膜の構造と発光特性に及ぼす基板温度の影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Influences of substrate temperature on the structure and photoluminescence of Zn_(0.85)Mg_(0.13)Al_(0.020) thin films
著者 (7件):
資料名:
巻: 15  号:ページ: 447-451  発行年: 2009年 
JST資料番号: C2096A  ISSN: 1007-4252  CODEN: GCQXFW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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RFマグネトロンスパッタリング法を採用した。ZN_(0.85)MG_(0.13)AL_(0.020)薄膜をSI(111)基板上に調製し,ZN_(0.85)MG_(0.13)AL_(0.020)薄膜はウルツ鉱型ウルツ鉱型構造であった。基板温度は室温から500°Cまで上昇し,薄膜はC軸に沿って成長した。原子間力顕微鏡(AFM)測定により、薄膜の表面粗さが基板温度の上昇により、9.32NMから19.94NMに増加することが分かった。蛍光スペクトル(PL)測定によると、薄膜は397NM付近に強い紫外発光があり、486NMに弱いLan光峰があり、基板温度の升高紫峰強さが15倍向上した。可視光の範囲内で、薄膜の平均透過率は基板温度の上昇により75%から95%まで増加し、薄膜の透過率はそれぞれ3.18、3.18と3.19EVであった。解析結果によると、紫色は自由励起子の複合に由来し、Lan峰はドナー準位ZNZN中にトラップされた電子とトラップ準位ZN空孔中の正孔との結合により、発光が発生することが明らかになった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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酸化物薄膜 
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