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J-GLOBAL ID：201702265244470131   整理番号：17A0142330

レーザ直接描画による大面積回折光学素子の作製【Powered by NICT】

Fabrication of large area diffractive optical elements by laser direct writing

著者 (9件)： Wang Yunjiao (Chongqing Key Laboratory of Multi-scale Manufacturing Technology, Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing, China 400714) ,  Zhang Weiguo (Chongqing Key Laboratory of Multi-scale Manufacturing Technology, Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing, China 400714) ,  Yang Zheng (Chongqing Key Laboratory of Multi-scale Manufacturing Technology, Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing, China 400714) ,  Xiong Xin (Chongqing Key Laboratory of Multi-scale Manufacturing Technology, Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing, China 400714) ,  Xia Liangping (Chongqing Key Laboratory of Multi-scale Manufacturing Technology, Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing, China 400714) ,  Gao Mingyou (Chongqing Key Laboratory of Multi-scale Manufacturing Technology, Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing, China 400714) ,  Zhang Dong (Chongqing Key Laboratory of Multi-scale Manufacturing Technology, Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing, China 400714) ,  Wang Deqiang (Chongqing Key Laboratory of Multi-scale Manufacturing Technology, Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing, China 400714) ,  Yuan Jiahu (Chongqing Key Laboratory of Multi-scale Manufacturing Technology, Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, Chinese Academy of Sciences, Chongqing, China 400714)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： 3M-NANO  ページ： 51-54  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レーザ直接描画技術による四相レベルを有する回折光学素子(DOE)を作製する方法を示した。一つの計算法は,ステップ深さ,DOEの効率を改善する可能性を最適化した。ステップ深さとイメージングの結果は,良好な光学的性質を用いて作製したDOE素子を実証した。DOEパターンの有効面積は49cm~2,大量生産応用のための容易に複製できると大きかった。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光学的性質 ,  *大量生産 ,  最適化 ,  画像処理
準シソーラス用語： *回折光学素子 ,  *大面積 ,  *レーザ直接描画 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (4件)： レーザ直接描画 ,  大面積 ,  回折光学素子 ,  作製