文献
J-GLOBAL ID:201702265269628013   整理番号:17A0402944

非晶質Ta_2O_5半導電層における表面プロフィルの勾配はナノスケール電流安定性を調節する【Powered by NICT】

Surface profile gradient in amorphous Ta2O5 semi conductive layers regulates nanoscale electric current stability
著者 (10件):
資料名:
巻: 396  ページ: 1000-1019  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
形態学的特性と非晶質層の電気特性を,原子間,導電性,静電力及び熱走査顕微鏡を用いて確立した。非晶質Ta_2O_5(a Ta_2O_5)半導体層を用いて,表面プロフィル勾配(形態学的勾配),対話型Coulomb部位中に捕獲された電子の電子エネルギー勾配と導電性経路に沿った熱勾配の両方に高度に相関していることが見出され,このようにして熱及び電気特性をナノスケールでの表面形態と相関していた。さらに,電子の逆導電性経路に沿った形態学的および電子エネルギー勾配は本質的に電流安定性異方性を課した。長い導電性経路(L>1μm)のいずれかのために,対称ナノ分域に沿って,正と負の両方の電流Iの電流安定性を実証した。一方,非対称ナノドメインに沿って短い導電性経路のための,独立変数(L, i)のセットは,二電流安定性/intability遺伝子座により測定される。一つの遺伝子座は負電流のための安定状態を特定するが,他の遺伝子座はまた正の電流の安定状態について述べた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (4件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
その他の無機化合物の薄膜  ,  その他の無機化合物の電気伝導  ,  固体デバイス製造技術一般  ,  半導体-金属接触 

前のページに戻る