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J-GLOBAL ID：201702266555320794   整理番号：17A0358221

大面積マイクロチャネルプレート(MCP)電子リンス試験システム設計【JST・京大機械翻訳】

Design of large area MCP electron rinse and test system

著者 (4件)： Song Chengxin (School of Mechanical Engineering,Nanjing University of Science and Technology) ,  Qiu Yafeng (School of Mechanical Engineering,Nanjing University of Science and Technology) ,  Qian Yunsheng (School of Electronic and Optical Engineering,Nanjing University of Science and Technology) ,  Tang Liming (School of Electronic and Optical Engineering,Nanjing University of Science and Technology)
資料名： Yingyong Guangxue  (Yingyong Guangxue)
巻： 37  号： 6  ページ： 833-838  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2741A  ISSN： 1002-2082  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 電子リンスはMCPの性能を向上させる有効な手段であり、現在国内のリンス試験システムは直径30MM以下のMCPにしか適用できないため、4工の大面積MCP(500MM×100MM)のリンス試験システムを設計した。このシステムは4つの位置が大面積MCPの電子リンスを実現することができ、その中の一つの位置はテスト機能を持ち、リンスの前後のMCPのパラメータ変化を測定でき、リンステスト位置は相互転換を実現できる。均一紫外光照射により均一陰極を発生させ、均一電子再標準MCP(Φ105MM)を倍増させた後、リンスのための調整可能な均一電子ビームを得た。このシステムは,真空度5×10(-4)PAで45分未満の真空度,真空度,および真空度によって,真空度5×10(-4)PAを達成し,そしてそれは,リンス試験の要求条件を完全に満たすことができた。この真空システムの真空度に及ぼす負荷の影響を考慮して,負荷影響因子Kを定義し,K値を定量的に計算し(K値は0.35~1.57の範囲),K値とシステムの真空度の間の正の関係を明らかにした。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： システム設計 ,  紫外線照射 ,  電子ビーム ,  *真空度 ,  マイクロチャネルプレート ,  相互変換
準シソーラス用語： 影響因子 ,  *大面積 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： electron rinse and test system ,  large area MCP ,  electronic surface-emitting source ,  vacuum degree

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 大面積 ,  マイクロチャネルプレート ,  MCP ,  電子 ,  リンス ,  試験システム ,  設計