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J-GLOBAL ID：201702266873595922   整理番号：17A0741410

ナノ積層AlドープZnO(AZO)多層の特性評価

Characteristics of Nano-Laminated Al-Doped ZnO(AZO) Multilayers

著者 (5件)： CHOI Moonsuk (Hanyang Univ., Seoul, KOR) ,  LIM Donghwan (Hanyang Univ., Seoul, KOR) ,  KIM Jinok (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  PARK Jin-Hong (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  CHOI Changhwan (Hanyang Univ., Seoul, KOR)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 16  号： 11  ページ： 11715-11721  発行年： 2016年11月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： AlドープZnO(AZO)多層,および,銀または金薄層を中間に挿入したAZO/金属/AZO多層膜をスパッタリング法により作成し,その物性を評価比較した。結晶構造と容易成長方向を調べた。金属中間層の挿入によって表面粗さは変化しないことが確認できた。また,後熱処理を行うと,結晶性と表面粗さが改善された。AZO多層膜の光透過率はAZO単層膜よりも低くなったが,後熱処理により改善された。両構造のエネルギーバンドギャップ,シート抵抗,電気抵抗率,キャリア濃度,電子移動度を与えた。

シソーラス用語： *積層板 ,  *酸化亜鉛 ,  *多層膜 ,  優先配向 ,  結晶構造 ,  層 ,  後熱処理 ,  表面粗さ ,  透過率 ,  バンドギャップ ,  シート抵抗 ,  電気抵抗率 ,  キャリア密度 ,  キャリア移動度 ,  *化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  *酸化物
準シソーラス用語： *ナノ積層体 ,  *AlドープZnO ,  優先方位 ,  中間層 ,  光透過率 ,  エネルギーバンドギャップ ,  電子移動度 ,  酸化物半導体 ,  *透明導電性酸化物

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  電気物性一般  (BM03010R)

タイトルに関連する用語 (4件)： AlドープZnO ,  Azo ,  多層 ,  特性評価