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J-GLOBAL ID：201702269036793521   整理番号：17A0367934

超臨界二酸化炭素を用いたマイクロスケール溝への6FDAとTFDBのふっ素化ポリイミドの蒸着【Powered by NICT】

Deposition of fluorinated polyimide consisting of 6FDA and TFDB into microscale trenches using supercritical carbon dioxide

著者 (5件)： Haruki Masashi (Faculty of Mechanical Engineering, Institute of Science and Engineering, Kanazawa University, Kakuma-machi, Kanazawa 920-1192, Japan) ,  Oda Asuka (Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Wasada Atsuhiko (Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Kihara Shin-ichi (Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Takishima Shigeki (Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan)
資料名： Journal of Supercritical Fluids  (Journal of Supercritical Fluids)
巻： 119  ページ： 238-244  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1591A  ISSN： 0896-8446  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2,2-ビス(3,4-アンヒドロジカルボキシフェニル)-ヘキサフルオロプロパン(6FDA)と2,2′-ビス(トリフルオロメチル)-4,4′-ジアミノビフェニル(TFDB)からなるふっ素化ポリイミド(PI)を,パターン化したマイクロスケール溝を有するシリコンウエハ上に堆積した。堆積は5mo1%N,N ジメチルホルムアミド(DMF)を含む超臨界二酸化炭素(scCO_2)で行った。ミクロトレンチ内でのフッ化PIの堆積に及ぼす単量体濃度と蒸着温度の影響をscCO_2を用いたふっ素化PIの堆積のための適切な条件を明らかにした。研究単量体濃度と蒸着温度は0.28×10~-2 1.1×10~ 2mol/dm~3と150 250°Cの範囲であった。溝内部に堆積したふっ素化PIの量は単量体濃度と蒸着温度の増加と共に増加した。,反応器中の相挙動の経時変化は,堆積時に検討した,マイクロスケール溝内部に堆積したふっ素化PIの形状と量の時間依存性変化についても検討した。最後に,トレンチサイズと析出挙動の間の関係を研究し,1.5 23.5,3 26,と5~30μmの幅深さサイズのトレンチが完全にふっ素化PIで満たされた同時にできた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 時間依存性 ,  パターン形成 ,  反応器 ,  *フッ素化 ,  *ポリイミド ,  単量体 ,  経時変化 ,  *蒸着 ,  *超臨界二酸化炭素
準シソーラス用語： トレンチ ,  相挙動 ,  蒸着温度 ,  シリコンウエハ ,  *マイクロスケール , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ふっ素化ポリイミド ,  Deposition ,  6FDA ,  TFDB ,  超臨界二酸化炭素

分類 (9件)： 反応工学,反応速度論  (XE01020M) ,  第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y) ,  海藻類  (FH02040G) ,  薬物の分析  (GV01040Q) ,  抽出平衡,分配平衡  (CB03030H) ,  触媒の調製  (CB06110P) ,  押出成形  (YH04040N) ,  高分子担体・触媒反応  (CG03030W) ,  抽出  (XD02030B)

タイトルに関連する用語 (6件)： 超臨界二酸化炭素 ,  マイクロスケール ,  6FDA ,  ふっ素化 ,  ポリイミド ,  蒸着