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J-GLOBAL ID：201702269511589398   整理番号：17A0463119

組みあわせナノ及びマイクロ加工のための直接レーザ描画及びソフトリソグラフィーモールド

Combination of direct laser writing and soft lithography molds for combined nano- and microfabrication

著者 (14件)： RUMLER M. (Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU) ,  RUMLER M. (Cluster of Excellence Engineering of Advanced Materials, Erlangen, DEU) ,  RUMLER M. (Graduate School in Advanced Optical Technol., Erlangen, DEU) ,  KOLLMUSS M. (Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU) ,  BAIER L. (Fraunhofer Inst. Integrated Systems and Device Technol., Erlangen, DEU) ,  MICHEL F. (Fraunhofer Inst. Integrated Systems and Device Technol., Erlangen, DEU) ,  FOERTHNER M. (Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU) ,  FOERTHNER M. (Graduate School in Advanced Optical Technol., Erlangen, DEU) ,  BECKER M. (Nanoworld Serv. GmbH, Erlangen, DEU) ,  ROMMEL M. (Fraunhofer Inst. Integrated Systems and Device Technol., Erlangen, DEU) ,  FREY L. (Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU) ,  FREY L. (Cluster of Excellence Engineering of Advanced Materials, Erlangen, DEU) ,  FREY L. (Graduate School in Advanced Optical Technol., Erlangen, DEU) ,  FREY L. (Fraunhofer Inst. Integrated Systems and Device Technol., Erlangen, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10032  ページ： 100320Q.1-100320Q.11  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 構造化ソフトリソグラフィー型を通しての直接レーザ描画(DLW)による,局所レーザ照射を用いたマイクロ構造及びナノ構造の組み合わせ作製を提案した。実験の結果,提案アプローチが,ほとんど任意のマイクロレイアウトにおける型のナノ構造を転写できるだけでなく,階層構造の作製にも有効であることがわかった。高レーザ電力による照射は照射領域周辺に制御できない硬化をもたらしたが,5mWの低レーザ電力による照射は,ほとんど垂直な側壁を形成した。この最適化プロセス設定により,ナノメータサイズの細孔で完全に覆われた高さ約16μmの階層構造を形成することができた。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *レーザ照射 ,  ナノ構造 ,  *階層構造 ,  側壁 ,  微細加工 ,  ナノメータ加工 ,  型 ,  レーザ出力 ,  パターン転写
準シソーラス用語： *ソフトリソグラフィー ,  成形型

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  レーザの応用  (BD04100V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 組みあわせ ,  マイクロ加工 ,  レーザ描画