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J-GLOBAL ID：201702270104938000   整理番号：17A0705662

オゾン処理下でのスルファメトキサゾールの分解機構:DFT研究【Powered by NICT】

The degradation mechanism of sulfamethoxazole under ozonation: a DFT study

著者 (5件)： Yu Hang (State Key Laboratory of Fine Chemicals, School of Chemical Engineering, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China. [e-mail]) ,  Ge Pu ,  Chen Jingwen ,  Xie Hongbin ,  Luo Yi
資料名： Environmental Science: Processes & Impacts  (Environmental Science: Processes & Impacts)
巻： 19  号： 3  ページ： 379-387  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1160A  ISSN： 2050-7887  CODEN： ESPICZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 抗生物質の一種であるスルファメトキサゾール(SMX)は環境中であり,公衆衛生を脅かす。強いとグリーン酸化剤としてオゾンを残留SMXの選択的酸化分解のための広く使用されている。しかし,現在の実験的アプローチにより詳細な酸化機構を解明することは困難である。考えられるSMXのオゾン処理経路を探索するためのここで行った理論的研究。二反応機構,すなわち,直接添加(DA)とH原子移動(HAT),を考察した。結果は,SMXの芳香環(ベンゼンまたはイソオキサゾール環)の一次酸化はDA機構,求電子付加特徴に従うことを示した。一方,SMXのアミノ基とメチル基の酸化は,H AT機構に従った。提案された機構に続いて,以前の実験中に検出される主要な酸化生成物は電流計算によれば得ることができる。より重要なことは,求電子剤としてO_3分子はスルホンアミドの最高被占分子軌道(HOMO)への大きな軌道の寄与を持つ部分を攻撃する。この結果は,スルホンアミドの主要なオゾン酸化部位はそれらのフロンティア分子軌道の情報を通して理論的に予測可能であることを示唆した。O_3仲介H ATエネルギー障壁と結合解離エネルギーとの間に正の相関を,N-H及びC-H結合酸化のためのが分かった。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： スルホンアミド ,  酸化 ,  抗生物質 ,  *オゾン処理 ,  HOMO ,  公衆衛生 ,  解離エネルギー ,  反応機構 ,  分子軌道 ,  アミノ基 ,  *オゾン ,  求電子試薬 ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族アミン ,  酸素複素環化合物 ,  第一アミン
準シソーラス用語： エネルギー障壁 ,  メチル基 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W)

物質索引 (1件)： スルファメトキサゾール

タイトルに関連する用語 (5件)： オゾン処理 ,  スルファメトキサゾール ,  分解 ,  DFT ,  研究