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J-GLOBAL ID：201702270292048573   整理番号：17A0366179

増強されたマイクロ波吸収を用いた薄厚FeSiAl/フレークグラファイト充填Al_2O_3セラミック【Powered by NICT】

Thin-thickness FeSiAl/flake graphite-filled Al₂O₃ ceramics with enhanced microwave absorption

著者 (4件)： Qing Yuchang (State Key Laboratory of Solidification Processing, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, China) ,  Zhou Wancheng (State Key Laboratory of Solidification Processing, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, China) ,  Luo Fa (State Key Laboratory of Solidification Processing, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, China) ,  Zhu Dongmei (State Key Laboratory of Solidification Processing, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 43  号： 1 PA  ページ： 870-874  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 薄いと増強されたマイクロ波吸収FeSiAl/片状黒鉛(FG)を充填したAl_2O_3セラミックスは,低電力プラズマ溶射により作製した。溶射セラミックス,相組成,微細構造,電磁(EM)特性と反射損失(RL)などの特性を調べた。FeSiAl/FG充填Al_2O_3セラミックの複素誘電率の適切な値と周波数依存性は,より大きな内部境界層静電容量とFeSiAlとFGの利点の組み合わせによりKuバンドで得ることができた。 7dB以下のRL値(80%吸収よりも大きい)は試料厚さ0.8mmのFeSiAl/FG充填Al_2O_3セラミックスの全Ku-バンド幅で得ることができた。これらの結果は,EM応用のための効果的なマイクロ波吸収材料としてこれらのセラミックスの使用可能性を示唆した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 溶射 ,  周波数依存性 ,  帯域幅 ,  相組成 ,  静電容量 ,  プラズマ溶射 ,  微細構造 ,  エレクトロセラミック ,  複素誘電率 ,  *セラミック
準シソーラス用語： Kuバンド ,  低電力化 ,  片状黒鉛 ,  *マイクロ波吸収 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 溶射処理 ,  電子セラミック ,  複素誘電率 ,  マイクロ波吸収

分類 (1件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (6件)： 増強 ,  マイクロ波吸収 ,  厚 ,  フレーク ,  グラファイト ,  セラミック