文献
J-GLOBAL ID:201702270577597664   整理番号:17A0442097

単層カーボンナノチューブアレイ成長狭い直径分布のためのAl_2O_3触媒の原子層堆積【Powered by NICT】

Atomic layer deposition of Al2O3 catalysts for narrow diameter distributed single-walled carbon nanotube arrays growth
著者 (11件):
資料名:
巻: 114  ページ: 224-229  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0270B  ISSN: 0008-6223  CODEN: CRBNA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
均一サイズ触媒の重要性と残留金属触媒の好ましくない効果を考慮して,ここで,典型的な容易な半導体技術すなわち原子層蒸着(A LD)が,狭い直径の単層カーボンナノチューブ(SWNT)アレイ成長のための非金属Al_2O_3触媒を調製することを利用する容易な方法を開発した。その結果,a面サファイア基板上に1.26±0.033nmの狭い直径分布を持つSWNTアレイを得た。さらに,触媒とSWNTとの間の関係を調べた。にこれらの最適条件はSWNT成長における狭い直径もキラリティー分布,SWNTの構造制御と相対的応用の開発を促進するための道を開く。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
炭素とその化合物 

前のページに戻る