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J-GLOBAL ID：201702271912731818   整理番号：17A0381446

ナノスケール高分子レンズアレイによるサブ波長光リソグラフィー【Powered by NICT】

Sub-wavelength optical lithography via nanoscale polymer lens array

著者 (4件)： Wu Jin (School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, Singapore) ,  Tao Kai (School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, Singapore) ,  Chen Di (Shanghai Jiao Tong University, P.R. China) ,  Miao Jianmin (School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, Singapore)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： MEMS  ページ： 289-292  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 初めて,曝露を用いて半球断面プロフィルでパターン化したフォトレジストテンプレートを作製した。長距離高度に規則的な高分子レンズアレイはフォトレジストテンプレートから複製される。高分子レンズアレイを初めてセンチメートルスケール領域を横切るサブ100nm特徴サイズをもつ周期的ナノ構造をほぼ完全に生成するソフト位相シフト要素として利用されている。ナノスケールポリマーレンズの集光能力をシミュレーションと実験により検証した。高分子レンズアレイは,その構造の明白な劣化もなく多数回に用い繰り返した。高分子レンズと被曝線量の大きさを調整することにより,80と200nmの最小特徴サイズをもつ金属とネガ型フォトレジストナノ構造をそれぞれ生成した。本ナノパターニング法の利点は,低コスト,高収率,長距離周期性,プログラマブル特徴サイズ,形状および組成にある。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *プラスチックレンズ ,  *フォトリソグラフィー ,  ナノ構造 ,  *高分子 ,  位相シフト ,  フォトレジスト ,  パターン形成 ,  集光 ,  *サブ波長
準シソーラス用語： 周期性 ,  ローコスト ,  ナノパターニング ,  長距離 ,  *レンズアレイ ,  *ナノスケール , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (9件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  光デバイス一般  (BD06010L) ,  固体プラズマ  (BM02160W) ,  光の散乱,回折,干渉  (BD03030M) ,  人体の汚染及び防止  (MB02020Z) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  半導体薄膜  (BK14040E) ,  肥料製造工業  (YB02080Z) ,  塩  (CD01050V)

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノスケール ,  高分子レンズ ,  アレイ ,  サブ波長 ,  光リソグラフィー