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J-GLOBAL ID：201702272103389792   整理番号：17A0705252

可視光照射下でのg C_3N_4による増加したH_2生成のための高度に安定な非貴金属Ni_2P助触媒【Powered by NICT】

A highly stable non-noble metal Ni₂P co-catalyst for increased H₂ generation by g-C₃N₄ under visible light irradiation

著者 (7件)： Ye Ping (School of Chemistry and Chemical Engineering, Anhui University, Hefei 230036, P. R. China. [e-mail]) ,  Liu Xinling ,  Iocozzia James ,  Yuan Yupeng ,  Gu Lina ,  Xu Gengsheng ,  Lin Zhiqun
資料名： Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability  (Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability)
巻： 5  号： 18  ページ： 8493-8498  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0204B  ISSN： 2050-7488  CODEN： JMCAET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： りん化ニッケル(Ni_2P)をAr雰囲気中で2時間,400°Cでg C_3N_4,NiCl_2,NaH_2PO_2の混合物をアニールすることにより黒鉛状窒化炭素(g C_3N_4)表面上に成長させた。アニーリングの間に,Ni_2P粒子はC_3N_4との密接な界面を形成した。結果として,光励起g C_3N_4Ni_2Pへの電荷移動はNi_2Pとg C_3N_4(微量H_2発生)の物理的混合物と比較して改善された光触媒H_2発生(40.5μmol H~( 1)g~( 1))により示されるように改善された。最適と同一の実験条件下で,Ni_2P負荷g C_3N_4(2 wt%)に及ぼすH_2生産速度は82.5μmol H~( 1)g~( 1),Pt担持g C_3N_4(0.5 wt%)のそれ(72μH~( 1)g~( 1))よりも高かった。印象,Ni_2Pは非貴金属助触媒であるにもかかわらず高度に安定なH_2生産活性を示した。活性損失は,反復使用及び24H長期H_2発生試験では起こらなかった。とは対照的に,H_2発生の顕著な減少は,同じ24時間試験期間にわたってPt g C_3N_4(0.5 wt%)で観察された。それらの多くの利点,非毒性,低コストで自然豊度を含む中で,Ni_2Pμg/g C_3N_4複合材料は効率的,持続的光触媒H_2生産を実現するための有望な代替物である。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光触媒 ,  界面 ,  グラファイト ,  複合材料 ,  光ポンピング ,  *貴金属 ,  電荷移動 ,  *ニッケル ,  毒性 ,  焼なまし
準シソーラス用語： 生産速度 ,  窒化炭素 ,  リン化ニッケル ,  *可視光照射 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 光化学反応  (CB08020F)

タイトルに関連する用語 (3件)： 可視光照射 ,  貴金属 ,  助触媒