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J-GLOBAL ID：201702272358093110   整理番号：17A0351863

窒素含有量が双晶マグネトロンスパッタリングによる窒化薄膜の性能に及ぼす影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of N_2 Flow Rate on Properties of CrN_x Coatings Deposited by Dual-Target Magnetron Sputtering

著者 (6件)： Yuan Yan (Lab of Plasma Physics and Materials,Beijing Institute of Graphic Communication) ,  Li Hua (Lab of Plasma Physics and Materials,Beijing Institute of Graphic Communication) ,  Zhang Haibao (Lab of Plasma Physics and Materials,Beijing Institute of Graphic Communication) ,  Yang Lizhen (Lab of Plasma Physics and Materials,Beijing Institute of Graphic Communication) ,  Liu Zhongwei (Lab of Plasma Physics and Materials,Beijing Institute of Graphic Communication) ,  Chen Qiang (Lab of Plasma Physics and Materials,Beijing Institute of Graphic Communication)
資料名： Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao  (Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao)
巻： 36  号： 12  ページ： 1381-1386  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2159A  ISSN： 1672-7126  CODEN： CKKSDV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 本論文では,中間周波数マグネトロンスパッタリング法を用いて,金属薄膜上に備Dan化Ge薄膜を調製した。X線回折計,微小硬さ,走査型電子顕微鏡,原子間力顕微鏡,摩擦摩耗試験装置,および電気化学ワークステーションを用いて,膜の相構造,微小硬さ,表面形態,付着性,耐摩耗性,および耐食性に及ぼす窒素流量(窒素/アルゴン流量比)の影響を研究した。結果により、窒素/アルゴン流量比の増加により、CRN_X薄膜の成分はCR→CR+CRN→CR+CR_2N+CRNの進化過程を経て、薄膜の形態は緻密、球状粒子から直方体の規則形状への転換構造に転換することが分かった。しかし,膜の表面粗さは,N_2/AR流量比が23/53のとき,N_2/AR流量比が23/53のとき,わずかに減少し,そして,粗さは,N_2/AR流量比が23/53のとき,最小値に達した。耐摩耗性と硬度は窒素流量の増加とともに最初に増加し,次に減少した。膜の耐食性は窒素の添加により明らかに改善された。総合的性能解析は,2.5ΜM厚さの窒化薄膜を調製するとき,N_2/AR(流量比)が23/53であることを示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *薄膜 ,  流量 ,  微小硬さ ,  耐摩耗性 ,  走査電子顕微鏡 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  金属薄膜 ,  耐食性 ,  原子間力顕微鏡 ,  *窒化 ,  硬度 ,  *窒素 ,  摩耗試験
準シソーラス用語： 流量比 ,  表面形態 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Magnetron sputtering ,  Chromium nitride coating ,  N_2 /Ar flow-rate ratio ,  Dual-target

分類 (1件)： 医用素材  (GA05040H)

タイトルに関連する用語 (5件)： 窒素含有量 ,  双晶 ,  マグネトロンスパッタリング ,  窒化 ,  薄膜