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J-GLOBAL ID：201702272379603449   整理番号：17A0407741

金属ガラス挙動を示す非晶質Zr-Cu薄膜合金【Powered by NICT】

Amorphous Zr-Cu thin-film alloys with metallic glass behavior

著者 (4件)： Zeman P. (Department of Physics and NTIS - European Centre of Excellence, University of West Bohemia, Univerzitni 8, 306 14, Plzen, Czech Republic) ,  Zitek M. (Department of Physics and NTIS - European Centre of Excellence, University of West Bohemia, Univerzitni 8, 306 14, Plzen, Czech Republic) ,  Zuzjakova S. (Department of Physics and NTIS - European Centre of Excellence, University of West Bohemia, Univerzitni 8, 306 14, Plzen, Czech Republic) ,  Cerstvy R. (Department of Physics and NTIS - European Centre of Excellence, University of West Bohemia, Univerzitni 8, 306 14, Plzen, Czech Republic)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 696  ページ： 1298-1306  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二元Zr-Cu薄膜合金はZrとCuターゲットを装備した二つの不平衡マグネトロンを用いた非反応性通常の直流およびインパルスマグネトロン共スパッタリングによって調製した。Zrターゲットを用いてマグネトロン直流領域で操作したパルス中のCuターゲットを用いてマグネトロンは低又は高密度放電条件で領域。膜中の元素組成は非常に広い組成範囲(~10 90at.%)で制御した。構造,熱挙動,Cu含有量の増加によるZr-Cu膜の機械的,電気的および表面性質の変化を系統的に調べた。Zr-Cu薄膜金属ガラスを用いて,低又は高密度放電条件とは無関係にat.%Cu約30と65の間のCu含有量で調製したことを見出した。Cu含有量の増加による結晶化温度と機械的性質の変化の間の明確な相関が観察された。高密度放電条件での蒸着は,圧縮応力(<0 GPa),高い硬度(>7 GPa),非常に滑らかな(表面粗さ<1nm)及び疎水性(水接触角>100°)表面とZr-Cu薄膜合金の調製をもたらした。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *銅 ,  疎水性 ,  表面性状 ,  直流 ,  マグネトロン ,  金属薄膜 ,  圧縮応力 ,  反応性 ,  *金属ガラス ,  *ジルコニウム ,  硬度 ,  晶出温度
準シソーラス用語： Cu含有量 ,  高密度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Zr-Cu ,  非晶質材料 ,  金属ガラス ,  薄膜 ,  マグネトロンスパッタリング

分類 (3件)： 機械的性質  (WB02030U) ,  非晶質金属の構造  (BK04020D) ,  金属系の相平衡・状態図  (CB03012T)

タイトルに関連する用語 (7件)： 金属ガラス ,  挙動 ,  非晶質 ,  Zr ,  Cu ,  薄膜 ,  合金