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J-GLOBAL ID：201702273334337552   整理番号：17A0859715

低TEプラズマはFINFET FEOLエッチングの挑戦に応用されている。【JST・京大機械翻訳】

著者 (2件)： Yang Qingyun (TEL Technology Center of America) ,  Chen Lee (Tokyo Electron America)
資料名： Gongneng Cailiao yu Qijian Xuebao  (Gongneng Cailiao yu Qijian Xuebao)
巻： 19  号： 5  ページ： 255-258  発行年： 2013年 
JST資料番号： C2096A  ISSN： 1007-4252  CODEN： GCQXFW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 本論文では,低温プラズマの新しいプラズマ源(RLSA(TM))を紹介した。低TE特性は,晶Yuan区などのイオンとパワーを分離することによって生じる。これらのイオン源はエッチング性能を向上させ,エッチング効果を低下させ,エッチング効果を低下させ,先進のFINFETのエッチング応用における挑戦を軽減することができる。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオン源 ,  *プラズマ ,  プラズマ源 ,  *エッチング ,  イオン
準シソーラス用語： ラジアルラインスロットアンテナ ,  低温プラズマ ,  *FEOL , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 核融合装置  (BJ02083Z) ,  加速器一般及び理論  (BE02010M)

タイトルに関連する用語 (6件)： Te ,  プラズマ ,  FinFET ,  FEOL ,  エッチング ,  応用