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J-GLOBAL ID：201702273606095174   整理番号：17A0271872

表面制限レドックス反応により析出したPt単分子層のXAFS(X線吸収微細構造)研究

A XAFS Investigation into the Pt Monolayer deposited from Surface-Limited Redox Reaction

著者 (6件)： YUAN Qiuyi (Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN) ,  TAKAKUSAGI Satoru (Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN) ,  UEMURA Yohei (Inst. for Molecular Sci., Aichi, JPN) ,  WADA Takahiro (Tokyo Medical and Dental Univ., Tokyo, JPN) ,  WAKISAKA Yuki (Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN) ,  ASAKURA Kiyotaka (Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
資料名： KEK Progress Report (Web)  (KEK Progress Report (Web))
号： 2016-8  ページ： ROMBUNNO.177 (WEB ONLY)  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： U0583A  ISSN： 1344-6320  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (8件)： 制限 ,  レドックス反応 ,  析出 ,  Pt ,  単分子層 ,  XAFS ,  X線吸収微細構造 ,  研究