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J-GLOBAL ID：201702273914124988   整理番号：17A0323835

高温下での煙道ガス中の炭化水素によるNOの光および熱触媒除去のための競合反応経路【Powered by NICT】

Competitive reaction pathway for photo and thermal catalytic removal of NO with hydrocarbon in flue gas under elevated temperatures

著者 (5件)： Yu Joseph Che-Chin (Department of Chemical Engineering, National Taiwan University, Taipei 10617, Taiwan) ,  Nguyen Van-Huy (Faculty of Chemical and Environmental Engineering, Lac Hong University, No. 10 Huynh Van Nghe, Buu Long, Bien Hoa, Dong Nai, Viet Nam) ,  Lasek Janusz (Institute for Chemical Processing of Coal, ul. Zamkowa 1, 41-803 Zabrze, Poland) ,  Li Duan Xing (Department of Chemical Engineering, National Taiwan University, Taipei 10617, Taiwan) ,  Wu Jeffrey C.S. (Department of Chemical Engineering, National Taiwan University, Taipei 10617, Taiwan)
資料名： Catalysis Communications  (Catalysis Communications)
巻： 84  ページ： 40-43  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1328A  ISSN： 1566-7367  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 三種類の光促進選択接触還元(photo-SCR)を含む光触媒NO除去反応の光酸化と光分解,高温下での煙道ガス中の指定された。反応経路の信頼性は,個々の触媒反応の熱力学的性質の変化の優れた一致によって支持された。O_2の存在は,低い反応温度での光触媒活性を効果的に改善できる。O_2とC_4H_10の過剰消費は,より高い反応温度でC_4H_10の酸化により認識され,NO除去の低下をもたらした。本研究では,煙道ガス中の炭化水素によるNOの光触媒除去を設計するための基礎を提供する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 反応温度 ,  接触還元 ,  *反応経路 ,  *炭化水素 ,  光触媒 ,  信頼性 ,  *触媒 ,  光酸化 ,  *高温 ,  熱力学的性質 ,  *競争反応 ,  光分解 ,  *煙道ガス
準シソーラス用語： 光触媒活性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 除去 ,  煙道ガス ,  Photocatalyst ,  光-SCR ,  反応経路

分類 (2件)： 有害ガス処理法  (SC04030H) ,  貴金属触媒  (CB06122I)

タイトルに関連する用語 (6件)： 煙道ガス ,  炭化水素 ,  NO ,  触媒 ,  競合 ,  反応経路