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J-GLOBAL ID:201702275422849152   整理番号:17A0445619

反応性マグネトロンスパッタリングにより作製したW_2N埋込みSi_3N_4ナノ複合体ハードコーティングの構造的および機械的研究【Powered by NICT】

Structural and mechanical studies of W2N embedded Si3N4 nanocomposite hard coating prepared by reactive magnetron sputtering
著者 (4件):
資料名:
巻: 311  ページ: 268-273  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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結晶窒化タングステンに埋め込まれた非晶質窒化けい素(W_2N/Si_3N_4)被覆をDC/RF反応性マグネトロン共スパッタリングを用いたSi(100)基板上に作製した。二のシリーズの被覆は200°Cと300°Cの基板温度で調製した。堆積時間は1hから2hまで変化させた。W_2N/Si_3N_4コーティングの構造と機械的性質に及ぼす堆積時間の影響を調べた。GIXRDの結果は,すべての皮膜でW_2Nの支配的な多結晶立方晶相の形成を示した。結晶成長は,被覆の堆積時間の増加と共に改善した。FESEM顕微鏡写真は,被覆の表面上にランダムに配向し,よく発達した,鋭いエッジ,不規則な形状の粒子を示した。微細構造は堆積時間の増加に伴ってより緻密な構造をもたらした。EDAXは,膜中のそれぞれ原子%約69.2%,17.3%及び13.5W,SiとNの存在を確認した。機械的性質は,蒸着時間の増加と共に改善した。達成された最大硬度(H),弾性係数(E),弾性回復(W)と塑性変形への抵抗(H~3/E~2)は300°Cおよび1.5H被覆では37.8±1.6GPa,393±11GPa,60.7±1.2%と349±14MPaであった。0.1とH~3e~2比~350MPaに近いH/E比の良好な値は上記コーティング(300°C及び1.5h)で得られ,優れた耐摩耗性を示唆した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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金属材料へのセラミック被覆 

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