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J-GLOBAL ID：201702276528344371   整理番号：17A0769735

チャープ鏡の設計と作製【Powered by NICT】

Design and Fabrication of Chirped Mirror

著者 (7件)： WANG Yan-Zhi (Key Laboratory of Materials for High Power Laser, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,ChineseAcademy of Sciences) ,  SHAO Jian-Da (Key Laboratory of Materials for High Power Laser, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,ChineseAcademy of Sciences) ,  DONG Hong-Cheng (Key Laboratory of Materials for High Power Laser, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,ChineseAcademy of Sciences) ,  ZHANG Wei-Li (Key Laboratory of Materials for High Power Laser, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,ChineseAcademy of Sciences) ,  CUI Yun (Key Laboratory of Materials for High Power Laser, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,ChineseAcademy of Sciences) ,  HE Hong-Bo (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,ChineseAcademy of Sciences) ,  FAN Zheng-Xiu (Key Laboratory of Materials for High Power Laser, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,ChineseAcademy of Sciences)
資料名： Chinese Physics Letters  (Chinese Physics Letters)
巻： 26  号： 9  ページ： 161-164  発行年： 2009年 
JST資料番号： W1191A  ISSN： 0256-307X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： チャープ鏡(CM)を設計し製作した。最適化されたCMは約 60fs~2の群遅延分散(GDD)と中心波長800nmの平均反射率99.4%の帯域幅200nmを提供する。CM構造は交互高屈折率Ta_2O_5と低屈折率SiO_2の52層から構成されている。測定結果は,CM製造精度の制御を,イオンビームスパッタリングを用いた時間制御を通して筆者らの要求を満たすことができることを示した。CMsのGDDを計算し設計の層の厚さと製造されたミラーの間の小さな相違に対して非常に敏感なので,著者らは膜製造における厚み誤差と屈折率不均一性をもたらす誤差源を解析した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 不均一性 ,  波長 ,  屈折率 ,  *チャープ ,  反射率 ,  イオンビームスパッタリング ,  最適化 ,  帯域幅 ,  時間制御 ,  群遅延特性
準シソーラス用語： 高屈折率 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (1件)： 英語キーワードはない

分類 (4件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  光デバイス一般  (BD06010L) ,  レーザ一般  (BD04030T) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： チャープ ,  設計 ,  作製