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J-GLOBAL ID：201702277905928632   整理番号：17A0532923

中赤外FBGで書かれた位相テンプレート回折光場解析【JST・京大機械翻訳】

Analysis on the Diffracted Light Field by Phase Mask for Mid-infrared FBGs Inscription

著者 (9件)： Li Xue (School of Electronic Science and Applied Physics, Hefei University of Technology) ,  Gao Weiqing (School of Electronic Science and Applied Physics, Hefei University of Technology) ,  Xu Qiang (School of Electronic Science and Applied Physics, Hefei University of Technology) ,  Hu Jigang (School of Electronic Science and Applied Physics, Hefei University of Technology) ,  Li Yuan (School of Electronic Science and Applied Physics, Hefei University of Technology) ,  Zhang Wei (School of Electronic Science and Applied Physics, Hefei University of Technology) ,  Chen Xiangdong (School of Electronic Science and Applied Physics, Hefei University of Technology) ,  Yuan Zijun (School of Electronic Science and Applied Physics, Hefei University of Technology) ,  Yu Youlong (School of Instrument Science and Opto-electronics, Hefei University of Technology)
資料名： Guangdian Gongcheng  (Guangdian Gongcheng)
巻： 43  号： 12  ページ： 13-19  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2092A  ISSN： 1003-501X  CODEN： GUGOEC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 有限要素法(FEM)に基づいて,赤外光ファイバBRAGGグレーティング(FBG)の位相テンプレートの物理モデルを構築し,位相マスクの回折場をシミュレーションした。シミュレーションにおいて,平面波と球面波の2つの異なる光源を採用した。平面波を入射光として用いた場合,平面波の入射角と位相テンプレート格子の溝深さを変えることによりTALBOT回折パターンの変化を解析した。球面を入射光として用いた場合,光源と位相テンプレートの距離を変えることにより回折パターンの変化を解析した。結果により、平面波が任意の角度で斜め入射する場合、入射光と同じ方向に沿ってTALBOT回折パターンが形成されることが分かった。位相マスクの深さを変えると,TALBOT回折パターンの形状とエネルギー分布は変化した。回折深さの増加とともに,回折エネルギーの最大値は,徐々に増加した。溝が一定の深さを超えると,エネルギーの最大値は減少し,一方,TALBOT画像は均一縞模様に変化した。球面波が位相テンプレートに入射したとき,TALBOT回折パターンは,表面波面の伝播方向に沿って分布した。球面波源が徐々に位相テンプレートに接近するにつれて、エネルギーの最大値は次第に上昇した。一定の距離を超えると,エネルギーの最大値は低下する。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 有限要素法 ,  平面波 ,  *位相 ,  入射角 ,  エネルギー分布 ,  球面波 ,  *回折 ,  光源 ,  球面
準シソーラス用語： 斜め入射 ,  回折パターン ,  入射光 ,  位相マスク ,  物理モデル ,  *光学場 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： fiber Bragg grating ,  phase mask ,  Talbot diffraction pattern ,  finite element method

分類 (1件)： 光の散乱,回折,干渉  (BD03030M)

タイトルに関連する用語 (6件)： FBG ,  位相 ,  テンプレート ,  回折 ,  光場 ,  解析